材料研究学报
材料研究學報
재료연구학보
CHINESE JOURNAL OF MATERIALS RESEARCH
2008年
5期
505-509
,共5页
韩庆%陈向强%刘奎仁%陈建设%魏绪钧
韓慶%陳嚮彊%劉奎仁%陳建設%魏緒鈞
한경%진향강%류규인%진건설%위서균
金属材料%Ni-S-Co合金%电沉积%非晶态%析氢反应
金屬材料%Ni-S-Co閤金%電沉積%非晶態%析氫反應
금속재료%Ni-S-Co합금%전침적%비정태%석경반응
用电沉积方法制备非晶态Ni-S-Co合金镀层,研究了镀层的电化学性能.结果表明,与非晶态Ni-S合金相比,Co的引入可提高镀层中S的含量.在析氢反应中非晶态Ni-S-Co合金电极具有很高的电化学活性,电流密度为150 mA·cm-2时其析氢过电位仅为70 mV,比非晶态Ni-S合金低20 mV.在长时间电解过程中S发生溶出反应有助于提高电极的表面粗糙程度,是提高电极析氢活性的重要原因之一.在析氢过程中,非晶态Ni-S-Co合金电极吸附大量的H原子,使反应的活化能降低,这是其析氢活性高的主要原因.非晶态Ni-S-Co合金镀层的析氢机理为电化学脱附机理,即-快速的Volmer反应(电化学步骤)和一较慢的Heyrovsky反应(电化学脱附步骤).
用電沉積方法製備非晶態Ni-S-Co閤金鍍層,研究瞭鍍層的電化學性能.結果錶明,與非晶態Ni-S閤金相比,Co的引入可提高鍍層中S的含量.在析氫反應中非晶態Ni-S-Co閤金電極具有很高的電化學活性,電流密度為150 mA·cm-2時其析氫過電位僅為70 mV,比非晶態Ni-S閤金低20 mV.在長時間電解過程中S髮生溶齣反應有助于提高電極的錶麵粗糙程度,是提高電極析氫活性的重要原因之一.在析氫過程中,非晶態Ni-S-Co閤金電極吸附大量的H原子,使反應的活化能降低,這是其析氫活性高的主要原因.非晶態Ni-S-Co閤金鍍層的析氫機理為電化學脫附機理,即-快速的Volmer反應(電化學步驟)和一較慢的Heyrovsky反應(電化學脫附步驟).
용전침적방법제비비정태Ni-S-Co합금도층,연구료도층적전화학성능.결과표명,여비정태Ni-S합금상비,Co적인입가제고도층중S적함량.재석경반응중비정태Ni-S-Co합금전겁구유흔고적전화학활성,전류밀도위150 mA·cm-2시기석경과전위부위70 mV,비비정태Ni-S합금저20 mV.재장시간전해과정중S발생용출반응유조우제고전겁적표면조조정도,시제고전겁석경활성적중요원인지일.재석경과정중,비정태Ni-S-Co합금전겁흡부대량적H원자,사반응적활화능강저,저시기석경활성고적주요원인.비정태Ni-S-Co합금도층적석경궤리위전화학탈부궤리,즉-쾌속적Volmer반응(전화학보취)화일교만적Heyrovsky반응(전화학탈부보취).
