金刚石与磨料磨具工程
金剛石與磨料磨具工程
금강석여마료마구공정
DIAMOND & ABRASIVES ENGINNERING
2005年
6期
16-19
,共4页
满卫东%汪建华%王传新%马志斌%王升高%刘远勇
滿衛東%汪建華%王傳新%馬誌斌%王升高%劉遠勇
만위동%왕건화%왕전신%마지빈%왕승고%류원용
金刚石膜%微波%化学气相沉积%生长
金剛石膜%微波%化學氣相沉積%生長
금강석막%미파%화학기상침적%생장
用自制的微波功率为5千瓦的微波等离子体(MWCVD)装置,研究了在CH4-H2反应气体中添加安全廉价的H2O代替O2金刚石膜的沉积状况,以H2/CH4/H2O作为反应气体,成功制备了厚度达到1.1毫米,面积达20平方厘米的金刚石厚膜.在沉积温度为700-900℃范围内,研究了CH4/H2=3.0%,H2O/H2=0.0-2.4%范围内金刚石膜沉积的速率,均匀性,形貌以及质量的变化规律.研究结果表明,在反应气体CH4/H2中添加适量H2O能降低金刚石膜中非金刚石碳的含量,提高金刚石膜厚度的均匀性,并对反应气体中添加H2O对CVD金刚石膜生长影响机理进行了阐述.
用自製的微波功率為5韆瓦的微波等離子體(MWCVD)裝置,研究瞭在CH4-H2反應氣體中添加安全廉價的H2O代替O2金剛石膜的沉積狀況,以H2/CH4/H2O作為反應氣體,成功製備瞭厚度達到1.1毫米,麵積達20平方釐米的金剛石厚膜.在沉積溫度為700-900℃範圍內,研究瞭CH4/H2=3.0%,H2O/H2=0.0-2.4%範圍內金剛石膜沉積的速率,均勻性,形貌以及質量的變化規律.研究結果錶明,在反應氣體CH4/H2中添加適量H2O能降低金剛石膜中非金剛石碳的含量,提高金剛石膜厚度的均勻性,併對反應氣體中添加H2O對CVD金剛石膜生長影響機理進行瞭闡述.
용자제적미파공솔위5천와적미파등리자체(MWCVD)장치,연구료재CH4-H2반응기체중첨가안전렴개적H2O대체O2금강석막적침적상황,이H2/CH4/H2O작위반응기체,성공제비료후도체도1.1호미,면적체20평방전미적금강석후막.재침적온도위700-900℃범위내,연구료CH4/H2=3.0%,H2O/H2=0.0-2.4%범위내금강석막침적적속솔,균균성,형모이급질량적변화규률.연구결과표명,재반응기체CH4/H2중첨가괄량H2O능강저금강석막중비금강석탄적함량,제고금강석막후도적균균성,병대반응기체중첨가H2O대CVD금강석막생장영향궤리진행료천술.
