表面技术
錶麵技術
표면기술
SURFACE TECHNOLOGY
2011年
2期
58-61
,共4页
王文君%汪建华%王均涛%辛永磊%熊礼威%刘峰
王文君%汪建華%王均濤%辛永磊%熊禮威%劉峰
왕문군%왕건화%왕균도%신영뢰%웅례위%류봉
硼浓度%掺硼金刚石薄膜%钛%微波等离子体化学气相沉积
硼濃度%摻硼金剛石薄膜%鈦%微波等離子體化學氣相沉積
붕농도%참붕금강석박막%태%미파등리자체화학기상침적
利用微波等离子体化学气相沉积法(MPCVD)在钛基底上制备了掺硼金刚石(BDD)薄膜.研究了硼源浓度对BDD薄膜生长的影响.分别采用扫描电子显微镜,拉曼光谱,X射线衍射技术对薄膜的表面形貌、残余应力、择优取向及TiC含量进行了分析.结果表明,硼源浓度升高对金刚石薄膜(111)织构生长有促进作用;随着掺硼浓度的增加,TiC含量和晶粒尺寸皆减小,同时薄膜的张应力增大,缓解薄膜自身在制备过程中形成的压应力,从而更大程度上提高薄膜附着力.
利用微波等離子體化學氣相沉積法(MPCVD)在鈦基底上製備瞭摻硼金剛石(BDD)薄膜.研究瞭硼源濃度對BDD薄膜生長的影響.分彆採用掃描電子顯微鏡,拉曼光譜,X射線衍射技術對薄膜的錶麵形貌、殘餘應力、擇優取嚮及TiC含量進行瞭分析.結果錶明,硼源濃度升高對金剛石薄膜(111)織構生長有促進作用;隨著摻硼濃度的增加,TiC含量和晶粒呎吋皆減小,同時薄膜的張應力增大,緩解薄膜自身在製備過程中形成的壓應力,從而更大程度上提高薄膜附著力.
이용미파등리자체화학기상침적법(MPCVD)재태기저상제비료참붕금강석(BDD)박막.연구료붕원농도대BDD박막생장적영향.분별채용소묘전자현미경,랍만광보,X사선연사기술대박막적표면형모、잔여응력、택우취향급TiC함량진행료분석.결과표명,붕원농도승고대금강석박막(111)직구생장유촉진작용;수착참붕농도적증가,TiC함량화정립척촌개감소,동시박막적장응력증대,완해박막자신재제비과정중형성적압응력,종이경대정도상제고박막부착력.
