真空
真空
진공
VACUUM
2012年
3期
47-50
,共4页
朱明%苏元军%范鹏辉%徐军
硃明%囌元軍%範鵬輝%徐軍
주명%소원군%범붕휘%서군
多晶硅薄膜%电感耦合等离子体%磁控溅射%拉曼散射%红外光谱
多晶硅薄膜%電感耦閤等離子體%磁控濺射%拉曼散射%紅外光譜
다정규박막%전감우합등리자체%자공천사%랍만산사%홍외광보
利用电感耦合等离子体辅助中频直流脉冲磁控溅射技术在200℃成功制备出多晶硅薄膜.详细介绍了等离子体源辅助磁控溅射技术制备多晶硅的工艺过程,并对辅助等离子体源放电功率对硅薄膜结晶度的影响进行了研究.利用拉曼散射、X射线衍射、傅里叶红外光谱对所制备的硅薄膜进行了表征.
利用電感耦閤等離子體輔助中頻直流脈遲磁控濺射技術在200℃成功製備齣多晶硅薄膜.詳細介紹瞭等離子體源輔助磁控濺射技術製備多晶硅的工藝過程,併對輔助等離子體源放電功率對硅薄膜結晶度的影響進行瞭研究.利用拉曼散射、X射線衍射、傅裏葉紅外光譜對所製備的硅薄膜進行瞭錶徵.
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