测试技术学报
測試技術學報
측시기술학보
JOURNAL OF TEST AND MEASUREMENT TECHNOLOGY
2012年
5期
388-392
,共5页
范江玮%王锋%孙钦蕾%韩小刚
範江瑋%王鋒%孫欽蕾%韓小剛
범강위%왕봉%손흠뢰%한소강
SiO2/Si超薄膜%多层模型%椭偏法%X射线全反射%热氧比法
SiO2/Si超薄膜%多層模型%橢偏法%X射線全反射%熱氧比法
SiO2/Si초박막%다층모형%타편법%X사선전반사%열양비법
采用不同的光学模型对厚度为6nm,密度为2.2 g/cm3的理想SiO2薄膜理论曲线进行了拟合,得到了薄膜厚度的计算结果随所采取的薄膜密度变化的规律:选用更大的薄膜密度值进行拟合计算会得到更小的厚度结果,其趋势近似线性.参考GIXRR方法测量得到的薄膜物理结构的结果,给出了优化的拟合计算模型(薄膜密度为2.4 g/cm3、表面粗糙度为0.4nm、界面粗糙度为0.3 nm),对于热氧化法制备的厚度小于10 nm的SiO2超薄膜,使用此模型进行拟合计算,可以得到比常规模型更为准确的厚度结果.采用优化的模型拟合了期望厚度为2,4,6,8,10 nm的SiO2超薄膜的SE实验曲线,得到的厚度结果分别为2.61,4.07,6.02,7.41,9.43 nm,与传统模型计算结果相比,分别降低了13.8%,10.3%,8.1%,7.3%和6.6%.
採用不同的光學模型對厚度為6nm,密度為2.2 g/cm3的理想SiO2薄膜理論麯線進行瞭擬閤,得到瞭薄膜厚度的計算結果隨所採取的薄膜密度變化的規律:選用更大的薄膜密度值進行擬閤計算會得到更小的厚度結果,其趨勢近似線性.參攷GIXRR方法測量得到的薄膜物理結構的結果,給齣瞭優化的擬閤計算模型(薄膜密度為2.4 g/cm3、錶麵粗糙度為0.4nm、界麵粗糙度為0.3 nm),對于熱氧化法製備的厚度小于10 nm的SiO2超薄膜,使用此模型進行擬閤計算,可以得到比常規模型更為準確的厚度結果.採用優化的模型擬閤瞭期望厚度為2,4,6,8,10 nm的SiO2超薄膜的SE實驗麯線,得到的厚度結果分彆為2.61,4.07,6.02,7.41,9.43 nm,與傳統模型計算結果相比,分彆降低瞭13.8%,10.3%,8.1%,7.3%和6.6%.
채용불동적광학모형대후도위6nm,밀도위2.2 g/cm3적이상SiO2박막이론곡선진행료의합,득도료박막후도적계산결과수소채취적박막밀도변화적규률:선용경대적박막밀도치진행의합계산회득도경소적후도결과,기추세근사선성.삼고GIXRR방법측량득도적박막물리결구적결과,급출료우화적의합계산모형(박막밀도위2.4 g/cm3、표면조조도위0.4nm、계면조조도위0.3 nm),대우열양화법제비적후도소우10 nm적SiO2초박막,사용차모형진행의합계산,가이득도비상규모형경위준학적후도결과.채용우화적모형의합료기망후도위2,4,6,8,10 nm적SiO2초박막적SE실험곡선,득도적후도결과분별위2.61,4.07,6.02,7.41,9.43 nm,여전통모형계산결과상비,분별강저료13.8%,10.3%,8.1%,7.3%화6.6%.