光电子·激光
光電子·激光
광전자·격광
JOURNAL OF OPTOECTRONICS·LASER
2006年
5期
549-553
,共5页
MgxZn1-xO薄膜%折射率%三阶非线性极化率%光克尔效应(OKE)
MgxZn1-xO薄膜%摺射率%三階非線性極化率%光剋爾效應(OKE)
MgxZn1-xO박막%절사솔%삼계비선성겁화솔%광극이효응(OKE)
利用电子束蒸发反应沉积技术,在蓝宝石和硅化玻璃衬底上生长得到MgxZn1-xO薄膜.立方相MgxZn1-xO(0.55≤x≤1.00)薄膜的折射率通过透射光谱技术和Manifacier方法计算得到.与六方相MgxZn1-xO薄膜相似,在400～800 nm波长范围内,立方相MgxZn1-xO薄膜的折射率色散关系遵循最小平方根的一阶Sellmeier色散方程.不同组分的MgxZn1-xO薄膜的三阶非线性极化率采用光克尔效应(OKE)技术测试获得.六方-立方双晶相结构的Mg0.37Zn0.63O薄膜具有最大的三阶非线性极化率,其原因可归功于薄膜微结构中六方和立方晶相分离所导致的晶粒散射.
利用電子束蒸髮反應沉積技術,在藍寶石和硅化玻璃襯底上生長得到MgxZn1-xO薄膜.立方相MgxZn1-xO(0.55≤x≤1.00)薄膜的摺射率通過透射光譜技術和Manifacier方法計算得到.與六方相MgxZn1-xO薄膜相似,在400～800 nm波長範圍內,立方相MgxZn1-xO薄膜的摺射率色散關繫遵循最小平方根的一階Sellmeier色散方程.不同組分的MgxZn1-xO薄膜的三階非線性極化率採用光剋爾效應(OKE)技術測試穫得.六方-立方雙晶相結構的Mg0.37Zn0.63O薄膜具有最大的三階非線性極化率,其原因可歸功于薄膜微結構中六方和立方晶相分離所導緻的晶粒散射.
이용전자속증발반응침적기술,재람보석화규화파리츤저상생장득도MgxZn1-xO박막.립방상MgxZn1-xO(0.55≤x≤1.00)박막적절사솔통과투사광보기술화Manifacier방법계산득도.여륙방상MgxZn1-xO박막상사,재400～800 nm파장범위내,립방상MgxZn1-xO박막적절사솔색산관계준순최소평방근적일계Sellmeier색산방정.불동조분적MgxZn1-xO박막적삼계비선성겁화솔채용광극이효응(OKE)기술측시획득.륙방-립방쌍정상결구적Mg0.37Zn0.63O박막구유최대적삼계비선성겁화솔,기원인가귀공우박막미결구중륙방화립방정상분리소도치적정립산사.
