光子学报
光子學報
광자학보
ACTA PHOTONICA SINICA
2011年
6期
902-906
,共5页
刘剑%王明乐%高刘德%董明灵%田晶晶
劉劍%王明樂%高劉德%董明靈%田晶晶
류검%왕명악%고류덕%동명령%전정정
偶氮苯%液晶聚合物%取向%稳定性
偶氮苯%液晶聚閤物%取嚮%穩定性
우담분%액정취합물%취향%은정성
根据取向透射率变化研究了偶氮苯侧链液晶聚合物在不同光照功率条件下的取向,用锥光干涉法表征了侧链介晶基元的取向方向,并研究了升温对取向膜的稳定性影响.实验结果表明介晶基元的取向速度和取向度都随光照时间和光照功率增加而增加；超过一定阈值功率(20 mW/cm2)时,随着光照时间延长薄膜的透射率(取向度)反而降低.高功率光照使侧链介晶基元发生了面内和面外两种取向,面外取向使聚合物膜的透射率降低.面外倾斜取向的介晶基元不稳定,在取向未达到饱和时停止光照,倾斜取向的介晶基元容易发生解取向,而面内取向的介晶基元则能维持取向的状态.用不饱和取向的方法,在光照功率为20 mW/cm2时,取向时间缩短为饱和取向的1/20,薄膜的取向度提高1.3倍.4 ms的一次曝光足以使聚合物膜产生可读出、稳定的面内取向,取向的结果能保持2年不发生变化.
根據取嚮透射率變化研究瞭偶氮苯側鏈液晶聚閤物在不同光照功率條件下的取嚮,用錐光榦涉法錶徵瞭側鏈介晶基元的取嚮方嚮,併研究瞭升溫對取嚮膜的穩定性影響.實驗結果錶明介晶基元的取嚮速度和取嚮度都隨光照時間和光照功率增加而增加；超過一定閾值功率(20 mW/cm2)時,隨著光照時間延長薄膜的透射率(取嚮度)反而降低.高功率光照使側鏈介晶基元髮生瞭麵內和麵外兩種取嚮,麵外取嚮使聚閤物膜的透射率降低.麵外傾斜取嚮的介晶基元不穩定,在取嚮未達到飽和時停止光照,傾斜取嚮的介晶基元容易髮生解取嚮,而麵內取嚮的介晶基元則能維持取嚮的狀態.用不飽和取嚮的方法,在光照功率為20 mW/cm2時,取嚮時間縮短為飽和取嚮的1/20,薄膜的取嚮度提高1.3倍.4 ms的一次曝光足以使聚閤物膜產生可讀齣、穩定的麵內取嚮,取嚮的結果能保持2年不髮生變化.
근거취향투사솔변화연구료우담분측련액정취합물재불동광조공솔조건하적취향,용추광간섭법표정료측련개정기원적취향방향,병연구료승온대취향막적은정성영향.실험결과표명개정기원적취향속도화취향도도수광조시간화광조공솔증가이증가；초과일정역치공솔(20 mW/cm2)시,수착광조시간연장박막적투사솔(취향도)반이강저.고공솔광조사측련개정기원발생료면내화면외량충취향,면외취향사취합물막적투사솔강저.면외경사취향적개정기원불은정,재취향미체도포화시정지광조,경사취향적개정기원용역발생해취향,이면내취향적개정기원칙능유지취향적상태.용불포화취향적방법,재광조공솔위20 mW/cm2시,취향시간축단위포화취향적1/20,박막적취향도제고1.3배.4 ms적일차폭광족이사취합물막산생가독출、은정적면내취향,취향적결과능보지2년불발생변화.
