电子工业专用设备
電子工業專用設備
전자공업전용설비
EQUIPMENT FOR ELECTRONIC PRODUCTS MANUFACTURING
2004年
3期
22-26
,共5页
光学光刻%光学邻近效应校正%下一代光刻%纳米制造%优势与前景
光學光刻%光學鄰近效應校正%下一代光刻%納米製造%優勢與前景
광학광각%광학린근효응교정%하일대광각%납미제조%우세여전경
概述了光学光刻技术向纳米制造挺进过程中光源、光学系统、照明技术、掩模设计、抗蚀剂、光学邻近效应校正、工作台等方面的进展以及光学光刻技术在大批量生产应用中的优势,并介绍了国外开发极紫外光刻技术的技术指标,预测了光学光刻技术的前景.
概述瞭光學光刻技術嚮納米製造挺進過程中光源、光學繫統、照明技術、掩模設計、抗蝕劑、光學鄰近效應校正、工作檯等方麵的進展以及光學光刻技術在大批量生產應用中的優勢,併介紹瞭國外開髮極紫外光刻技術的技術指標,預測瞭光學光刻技術的前景.
개술료광학광각기술향납미제조정진과정중광원、광학계통、조명기술、엄모설계、항식제、광학린근효응교정、공작태등방면적진전이급광학광각기술재대비량생산응용중적우세,병개소료국외개발겁자외광각기술적기술지표,예측료광학광각기술적전경.
