人工晶体学报
人工晶體學報
인공정체학보
2010年
4期
883-887
,共5页
鲁林峰%沈鸿烈%张娟%江丰%李斌斌%沈洲%刘恋慈
魯林峰%瀋鴻烈%張娟%江豐%李斌斌%瀋洲%劉戀慈
로림봉%침홍렬%장연%강봉%리빈빈%침주%류련자
β-FeSi2薄膜%石英衬底%亚层厚度比%多层膜
β-FeSi2薄膜%石英襯底%亞層厚度比%多層膜
β-FeSi2박막%석영츤저%아층후도비%다층막
采用射频磁控溅射方法,在Si(111)和石英衬底上制备了Fe/Si亚层厚度比不同的多层膜.多层膜的总厚度为252 nm,Fe/Si亚层厚度比分别为1 nm/3.2 nm、2 nm/6.4 nm和20 nm/64 nm.在850 ℃, Ar气气氛中退火2 h后,Si衬底上的多层膜完全生成了β-FeSi2相.但石英衬底上同样Fe/Si亚层厚度比的多层膜除了生成β-FeSi2相,还生成了少量的ε-FeSi相.通过增加Si亚层的厚度至Fe/Si亚层厚度比为2 nm/7.0 nm,在石英衬底上也获得了单相的β-FeSi2薄膜, 其光学带隙为0.87 eV,表面均方根粗糙度为2.34 nm.
採用射頻磁控濺射方法,在Si(111)和石英襯底上製備瞭Fe/Si亞層厚度比不同的多層膜.多層膜的總厚度為252 nm,Fe/Si亞層厚度比分彆為1 nm/3.2 nm、2 nm/6.4 nm和20 nm/64 nm.在850 ℃, Ar氣氣氛中退火2 h後,Si襯底上的多層膜完全生成瞭β-FeSi2相.但石英襯底上同樣Fe/Si亞層厚度比的多層膜除瞭生成β-FeSi2相,還生成瞭少量的ε-FeSi相.通過增加Si亞層的厚度至Fe/Si亞層厚度比為2 nm/7.0 nm,在石英襯底上也穫得瞭單相的β-FeSi2薄膜, 其光學帶隙為0.87 eV,錶麵均方根粗糙度為2.34 nm.
채용사빈자공천사방법,재Si(111)화석영츤저상제비료Fe/Si아층후도비불동적다층막.다층막적총후도위252 nm,Fe/Si아층후도비분별위1 nm/3.2 nm、2 nm/6.4 nm화20 nm/64 nm.재850 ℃, Ar기기분중퇴화2 h후,Si츤저상적다층막완전생성료β-FeSi2상.단석영츤저상동양Fe/Si아층후도비적다층막제료생성β-FeSi2상,환생성료소량적ε-FeSi상.통과증가Si아층적후도지Fe/Si아층후도비위2 nm/7.0 nm,재석영츤저상야획득료단상적β-FeSi2박막, 기광학대극위0.87 eV,표면균방근조조도위2.34 nm.
