溅射电压和铝掺杂对透明导电氧化锌薄膜性能的影响
천사전압화려참잡대투명도전양화자박막성능적영향
Influence of Sputtering Voltage and Al Dopping on Electrical and Optical Characteristics of Transparent Conducting ZnO Thin Film
  • 万方数据
    稀有金属 희유금속
    CHINESE JOURNAL OF RARE METALS
    2000年 2期 154-156 ,共3页

    施昌勇%沈克明

    시창용%침극명

    透明导电膜%ZnO∶Al%ECR微波等离子体反应溅射 透明導電膜%ZnO∶Al%ECR微波等離子體反應濺射
    투명도전막%ZnO∶Al%ECR미파등리자체반응천사
    研究了用微波ECR等离子体反应溅射制备透明导电氧化锌薄膜工艺中靶压及铝的掺入对薄膜电阻率和透光率的影响, 制得电阻率为10-5 Ω.m数量级, 可见光平均透光率大于80%的透明导电ZnO∶Al (AZO) 膜.
    연구료용미파ECR등리자체반응천사제비투명도전양화자박막공예중파압급려적참입대박막전조솔화투광솔적영향, 제득전조솔위10-5 Ω.m수량급, 가견광평균투광솔대우80%적투명도전ZnO∶Al (AZO) 막.
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