真空科学与技术学报
真空科學與技術學報
진공과학여기술학보
JOURNAL OF VACUUM SCIENCE AND TECHNOLOGY
2004年
6期
459-464
,共6页
江宁%沈耀根%张寒洁%鲍世宁
江寧%瀋耀根%張寒潔%鮑世寧
강저%침요근%장한길%포세저
磁控溅射%氮化钛%原子力显微镜%X光电子能谱
磁控濺射%氮化鈦%原子力顯微鏡%X光電子能譜
자공천사%담화태%원자력현미경%X광전자능보
采用反应非平衡磁控溅射方法制备了氮化钛(TiN)薄膜,沉积时的衬底偏压的范围从0V到-500 V.实验结果表明:TiN薄膜的物理特性和力学性能随衬底偏压变化,最佳的薄膜硬度与弹性模量在偏压为-100 V时得到.AFM的测量结果显示薄膜的表面形貌和粗糙度随衬底偏压变化有一个非线性的变化趋势,同样的趋势也出现在Ti2p和N1s的芯态能谱上.特定谱峰的强度和位置的变化预示着偏压引起的薄膜成分和化学态的变化,XPS的结果表明:适当的偏压有助于TiN的成键,稳定的化学结构防止了表面的氧化和扩散,抑制了杂质和缺陷的形成,良好的机械特性归于表面形貌的改善.
採用反應非平衡磁控濺射方法製備瞭氮化鈦(TiN)薄膜,沉積時的襯底偏壓的範圍從0V到-500 V.實驗結果錶明:TiN薄膜的物理特性和力學性能隨襯底偏壓變化,最佳的薄膜硬度與彈性模量在偏壓為-100 V時得到.AFM的測量結果顯示薄膜的錶麵形貌和粗糙度隨襯底偏壓變化有一箇非線性的變化趨勢,同樣的趨勢也齣現在Ti2p和N1s的芯態能譜上.特定譜峰的彊度和位置的變化預示著偏壓引起的薄膜成分和化學態的變化,XPS的結果錶明:適噹的偏壓有助于TiN的成鍵,穩定的化學結構防止瞭錶麵的氧化和擴散,抑製瞭雜質和缺陷的形成,良好的機械特性歸于錶麵形貌的改善.
채용반응비평형자공천사방법제비료담화태(TiN)박막,침적시적츤저편압적범위종0V도-500 V.실험결과표명:TiN박막적물리특성화역학성능수츤저편압변화,최가적박막경도여탄성모량재편압위-100 V시득도.AFM적측량결과현시박막적표면형모화조조도수츤저편압변화유일개비선성적변화추세,동양적추세야출현재Ti2p화N1s적심태능보상.특정보봉적강도화위치적변화예시착편압인기적박막성분화화학태적변화,XPS적결과표명:괄당적편압유조우TiN적성건,은정적화학결구방지료표면적양화화확산,억제료잡질화결함적형성,량호적궤계특성귀우표면형모적개선.
