光电工程
光電工程
광전공정
OPTO-ELECTRONIC ENGINEERING
2004年
2期
8-10
,共3页
干涉光刻%激光光刻%无掩模%波前分割
榦涉光刻%激光光刻%無掩模%波前分割
간섭광각%격광광각%무엄모%파전분할
激光干涉光刻不受传统光学光刻系统光源和数值孔径的限制,其极限尺寸CD达到曝光波长的1/4,研究了波前分割双光束、三光束方法及四光束无掩模激光干涉光刻方法,提出了可用于五光束和多种多光束和多次曝光的梯形棱镜波前分割干涉光刻方法.用自行建立的梯形棱镜波前分割系统进行了多光束干涉曝光实验,得到孔尺寸约220nm的阵列图形.
激光榦涉光刻不受傳統光學光刻繫統光源和數值孔徑的限製,其極限呎吋CD達到曝光波長的1/4,研究瞭波前分割雙光束、三光束方法及四光束無掩模激光榦涉光刻方法,提齣瞭可用于五光束和多種多光束和多次曝光的梯形稜鏡波前分割榦涉光刻方法.用自行建立的梯形稜鏡波前分割繫統進行瞭多光束榦涉曝光實驗,得到孔呎吋約220nm的陣列圖形.
격광간섭광각불수전통광학광각계통광원화수치공경적한제,기겁한척촌CD체도폭광파장적1/4,연구료파전분할쌍광속、삼광속방법급사광속무엄모격광간섭광각방법,제출료가용우오광속화다충다광속화다차폭광적제형릉경파전분할간섭광각방법.용자행건립적제형릉경파전분할계통진행료다광속간섭폭광실험,득도공척촌약220nm적진렬도형.
