功能材料与器件学报
功能材料與器件學報
공능재료여기건학보
JOURNAL OF FUNCTIONAL MATERIALS AND DEVICES
2005年
4期
415-418
,共4页
展晓元%顾有松%张大勇%张跃
展曉元%顧有鬆%張大勇%張躍
전효원%고유송%장대용%장약
记录介质%结构观察%磁性能%热处理
記錄介質%結構觀察%磁性能%熱處理
기록개질%결구관찰%자성능%열처리
采用磁控溅射方法在自然氧化的单晶Si(100)衬底上制备了纳米结构的Fex Pt100-x(x=30at%～60at%)薄膜.高温XRD分析表明,薄膜在500℃热处理有明显的面心立方FCC结构向面心四方FCT结构转变. 通过VSM、AFM对薄膜样品的磁性检测和晶粒尺度的观察,FePt合金薄膜有序化转变的最佳热处理温度在400～500℃,在这个热处理温度范围内,薄膜软硬磁耦合较好,矫顽力适当(306kA/m),晶粒尺寸约为10nm,适合于做高密度磁记录介质材料.
採用磁控濺射方法在自然氧化的單晶Si(100)襯底上製備瞭納米結構的Fex Pt100-x(x=30at%～60at%)薄膜.高溫XRD分析錶明,薄膜在500℃熱處理有明顯的麵心立方FCC結構嚮麵心四方FCT結構轉變. 通過VSM、AFM對薄膜樣品的磁性檢測和晶粒呎度的觀察,FePt閤金薄膜有序化轉變的最佳熱處理溫度在400～500℃,在這箇熱處理溫度範圍內,薄膜軟硬磁耦閤較好,矯頑力適噹(306kA/m),晶粒呎吋約為10nm,適閤于做高密度磁記錄介質材料.
채용자공천사방법재자연양화적단정Si(100)츤저상제비료납미결구적Fex Pt100-x(x=30at%～60at%)박막.고온XRD분석표명,박막재500℃열처리유명현적면심립방FCC결구향면심사방FCT결구전변. 통과VSM、AFM대박막양품적자성검측화정립척도적관찰,FePt합금박막유서화전변적최가열처리온도재400～500℃,재저개열처리온도범위내,박막연경자우합교호,교완력괄당(306kA/m),정립척촌약위10nm,괄합우주고밀도자기록개질재료.
