红外与激光工程
紅外與激光工程
홍외여격광공정
INFRARED AND LASER ENGINEERING
2012年
5期
1223-1231
,共9页
投影式光刻%无掩膜光刻%发展趋势
投影式光刻%無掩膜光刻%髮展趨勢
투영식광각%무엄막광각%발전추세
光刻技术作为制备半导体器件的关键技术之一将制约着半导体行业的发展和半导体器件的性能.随着半导体工业的发展,集成电路的特征尺寸越来越小,光刻技术将面临新的挑战.分析了激光光刻技术,包括投影式光刻和激光无掩膜光刻技术的研究现状,着重介绍了极紫外光刻(EUVL)作为下一代光刻技术的发展前景和技术难点、激光无掩膜光刻技术的发展,特别是激光近场扫描光刻、激光干涉光刻、激光非线性光刻等新技术的最新进展及其在高分辨率纳米加工领域的应用前景.
光刻技術作為製備半導體器件的關鍵技術之一將製約著半導體行業的髮展和半導體器件的性能.隨著半導體工業的髮展,集成電路的特徵呎吋越來越小,光刻技術將麵臨新的挑戰.分析瞭激光光刻技術,包括投影式光刻和激光無掩膜光刻技術的研究現狀,著重介紹瞭極紫外光刻(EUVL)作為下一代光刻技術的髮展前景和技術難點、激光無掩膜光刻技術的髮展,特彆是激光近場掃描光刻、激光榦涉光刻、激光非線性光刻等新技術的最新進展及其在高分辨率納米加工領域的應用前景.
광각기술작위제비반도체기건적관건기술지일장제약착반도체행업적발전화반도체기건적성능.수착반도체공업적발전,집성전로적특정척촌월래월소,광각기술장면림신적도전.분석료격광광각기술,포괄투영식광각화격광무엄막광각기술적연구현상,착중개소료겁자외광각(EUVL)작위하일대광각기술적발전전경화기술난점、격광무엄막광각기술적발전,특별시격광근장소묘광각、격광간섭광각、격광비선성광각등신기술적최신진전급기재고분변솔납미가공영역적응용전경.
