光电子·激光
光電子·激光
광전자·격광
JOURNAL OF OPTOECTRONICS·LASER
2008年
12期
1648-1652
,共5页
杨伟锋%刘著光%吕英%黄火林%吴正云
楊偉鋒%劉著光%呂英%黃火林%吳正雲
양위봉%류저광%려영%황화림%오정운
RF磁控溅射%透明导电薄膜%AZO薄膜
RF磁控濺射%透明導電薄膜%AZO薄膜
RF자공천사%투명도전박막%AZO박막
采用RF磁控溅射技术以ZnO:Al2O3(2 wt%Al2O3)为靶材在石英玻璃衬底上制备多晶ZnO:Al(AZO)薄膜,通过XRD、AFM、AES以及Hall效应、透射光谱、折射率等手段研究了RF溅射功率(50～300 W)对薄膜的组织结构和电学,光学性能的影响.分析表明:所制备的AZO薄膜具有c轴择优取向,并且通过对不同功率下薄膜载流子浓度与迁移率的研究发现对于室温下沉积的AZO薄膜,晶粒间界中的O原子吸附是影响薄膜电学性能的主要因素.同时发现当功率为250 W时薄膜的电阻率降至最低(3.995×10-3 Ω·cm),可见光区平均透射率为91%.
採用RF磁控濺射技術以ZnO:Al2O3(2 wt%Al2O3)為靶材在石英玻璃襯底上製備多晶ZnO:Al(AZO)薄膜,通過XRD、AFM、AES以及Hall效應、透射光譜、摺射率等手段研究瞭RF濺射功率(50～300 W)對薄膜的組織結構和電學,光學性能的影響.分析錶明:所製備的AZO薄膜具有c軸擇優取嚮,併且通過對不同功率下薄膜載流子濃度與遷移率的研究髮現對于室溫下沉積的AZO薄膜,晶粒間界中的O原子吸附是影響薄膜電學性能的主要因素.同時髮現噹功率為250 W時薄膜的電阻率降至最低(3.995×10-3 Ω·cm),可見光區平均透射率為91%.
채용RF자공천사기술이ZnO:Al2O3(2 wt%Al2O3)위파재재석영파리츤저상제비다정ZnO:Al(AZO)박막,통과XRD、AFM、AES이급Hall효응、투사광보、절사솔등수단연구료RF천사공솔(50～300 W)대박막적조직결구화전학,광학성능적영향.분석표명:소제비적AZO박막구유c축택우취향,병차통과대불동공솔하박막재류자농도여천이솔적연구발현대우실온하침적적AZO박막,정립간계중적O원자흡부시영향박막전학성능적주요인소.동시발현당공솔위250 W시박막적전조솔강지최저(3.995×10-3 Ω·cm),가견광구평균투사솔위91%.
