NiTi形状记忆薄膜的溅射制备及晶化热处理工艺
NiTi형상기억박막적천사제비급정화열처리공예
Preparation and Annealing of Sputtered NiTi Shape Memory Thin Films
  • 万方数据
    材料热处理学报 재료열처이학보
    TRANSACTIONS OF MATERIALS AND HEAT TREATMENT
    2001年 4期 40-42 ,共3页

    宫峰飞%王业宁%沈惠敏

    궁봉비%왕업저%침혜민

    NiTi形状记忆薄膜%溅射制备%晶化热处理 NiTi形狀記憶薄膜%濺射製備%晶化熱處理
    NiTi형상기억박막%천사제비%정화열처리
    用磁控溅射法制备了MiTi非晶薄膜.薄膜无形状记忆效应.研究了经不同晶化热处理后的形状记忆效应,获得的最佳晶化热处理条件为500～700℃范围内晶化0.5h.
    용자공천사법제비료MiTi비정박막.박막무형상기억효응.연구료경불동정화열처리후적형상기억효응,획득적최가정화열처리조건위500～700℃범위내정화0.5h.
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