半导体学报
半導體學報
반도체학보
CHINESE JOURNAL OF SEMICONDUCTORS
2001年
1期
47-52
,共6页
刘新宇%韩郑生%周小茵%海潮和%刘忠立%吴德馨
劉新宇%韓鄭生%週小茵%海潮和%劉忠立%吳德馨
류신우%한정생%주소인%해조화%류충립%오덕형
ATD电路%DWL技术%SOI ESD电路%两级灵敏放大器
ATD電路%DWL技術%SOI ESD電路%兩級靈敏放大器
ATD전로%DWL기술%SOI ESD전로%량급령민방대기
对一种CMOS/SOI 64Kb静态随机存储器进行了研究,其电路采用8K×8的并行结构体系.为了提高电路的速度,采用地址转换监控(Address-Translate-Detector,ATD)、两级字线(Double-Word-Line,DWL)和新型的两级灵敏放大等技术,电路存取时间仅40ns;同时,重点研究了SOI静电泄放(Electrostatic-Discharge,ESD)保护电路和一种改进的灵敏放大器,设计出一套全新ESD电路,其抗静电能力高达4200—4500V.SOI 64Kb CMOS静态存储器采用1.2μm SOI CMOS抗辐照工艺技术,芯片尺寸为7.8mm×7.24mm.
對一種CMOS/SOI 64Kb靜態隨機存儲器進行瞭研究,其電路採用8K×8的併行結構體繫.為瞭提高電路的速度,採用地阯轉換鑑控(Address-Translate-Detector,ATD)、兩級字線(Double-Word-Line,DWL)和新型的兩級靈敏放大等技術,電路存取時間僅40ns;同時,重點研究瞭SOI靜電洩放(Electrostatic-Discharge,ESD)保護電路和一種改進的靈敏放大器,設計齣一套全新ESD電路,其抗靜電能力高達4200—4500V.SOI 64Kb CMOS靜態存儲器採用1.2μm SOI CMOS抗輻照工藝技術,芯片呎吋為7.8mm×7.24mm.
대일충CMOS/SOI 64Kb정태수궤존저기진행료연구,기전로채용8K×8적병행결구체계.위료제고전로적속도,채용지지전환감공(Address-Translate-Detector,ATD)、량급자선(Double-Word-Line,DWL)화신형적량급령민방대등기술,전로존취시간부40ns;동시,중점연구료SOI정전설방(Electrostatic-Discharge,ESD)보호전로화일충개진적령민방대기,설계출일투전신ESD전로,기항정전능력고체4200—4500V.SOI 64Kb CMOS정태존저기채용1.2μm SOI CMOS항복조공예기술,심편척촌위7.8mm×7.24mm.
An SOI SRAM with 8K×8 concurrent system has been described.To reduce the power and raise the speed of circuit,addess-transition-detection,doubl-word-line and double double-stage sense amplifier technology,etc.are adopted.Fast access time of 40ns is abtained. Placing great emphasis on the investigation of SOI ESD (Electrostatic-Discharge) protection circuit and the improved amplifier,a set of optimum ESD circuit is designed,which is capable of protecting from the static discharge in excess of 4200—4500V.1.2μm SOI CMOS technology has been developed for SOI 64Kb CMOS SRAM,with the chip size of 7.8mm×7.24mm.