电子学报
電子學報
전자학보
ACTA ELECTRONICA SINICA
2002年
5期
661-663
,共3页
柳襄怀%任琮欣%江炳尧%朱宏%刘炎源%刘静贤
柳襄懷%任琮訢%江炳堯%硃宏%劉炎源%劉靜賢
류양부%임종흔%강병요%주굉%류염원%류정현
钼栅极%电子发射%离子束辅助沉积
鉬柵極%電子髮射%離子束輔助沉積
목책겁%전자발사%리자속보조침적
本文利用离子束辅助沉积方法在钼栅极的表面镀上一层碳膜,采用模拟二极管的方法测量阴极活性物质Ba、BaO蒸发沉积在镀碳钼栅与纯钼栅表面后的电子发射性能.测量结果表明,镀碳钼栅的电子发射量显著减少.依据XPS、电子探针对钼栅极表面阴极发射物的分析结果,初步探讨了离子束辅助沉积碳膜抑制栅电子发射的机制.
本文利用離子束輔助沉積方法在鉬柵極的錶麵鍍上一層碳膜,採用模擬二極管的方法測量陰極活性物質Ba、BaO蒸髮沉積在鍍碳鉬柵與純鉬柵錶麵後的電子髮射性能.測量結果錶明,鍍碳鉬柵的電子髮射量顯著減少.依據XPS、電子探針對鉬柵極錶麵陰極髮射物的分析結果,初步探討瞭離子束輔助沉積碳膜抑製柵電子髮射的機製.
본문이용리자속보조침적방법재목책겁적표면도상일층탄막,채용모의이겁관적방법측량음겁활성물질Ba、BaO증발침적재도탄목책여순목책표면후적전자발사성능.측량결과표명,도탄목책적전자발사량현저감소.의거XPS、전자탐침대목책겁표면음겁발사물적분석결과,초보탐토료리자속보조침적탄막억제책전자발사적궤제.
