电源技术
電源技術
전원기술
CHINESE JOURNAL OF POWER SOURCES
2011年
12期
1520-1522,1526
,共4页
张爱玲%朱训农%李三喜%王松%田波%刘慧
張愛玲%硃訓農%李三喜%王鬆%田波%劉慧
장애령%주훈농%리삼희%왕송%전파%류혜
液晶离聚物%离子传导率%多孔电解质膜%增塑剂%交流阻抗
液晶離聚物%離子傳導率%多孔電解質膜%增塑劑%交流阻抗
액정리취물%리자전도솔%다공전해질막%증소제%교류조항
针对聚合物电解质膜电导率低、力学性能差的问题,用一种含磺酸基团的液晶离聚物(LCI)、聚甲基丙烯酸甲酯( PMMA)、高氯酸锂(LiCIO4)用溶液共混法制成多孔电解质膜.采用磺酸基团作为传输锂离子的体系,N-甲基吡咯烷酮(NMP)为增塑剂.孔隙率测定和扫描电镜表明:膜为多孔状结构,孔隙率为16.4％～29.3％.孔径在1～9 μm.红外光谱结果表明,磺酸基团的-OH峰3 435 cm-1在加入LiCIO4之后,-OH的峰值移到3556cm-1.在加入NMP后,移到3 598 cm-1.交流阻抗研究表明:在25℃下,电解质膜的LCI含量25％时,离子传导率达2.60×10-6 S/cm,在膜中加入20％NMP时,离子传导率达到3.86×10-3S/cm.
針對聚閤物電解質膜電導率低、力學性能差的問題,用一種含磺痠基糰的液晶離聚物(LCI)、聚甲基丙烯痠甲酯( PMMA)、高氯痠鋰(LiCIO4)用溶液共混法製成多孔電解質膜.採用磺痠基糰作為傳輸鋰離子的體繫,N-甲基吡咯烷酮(NMP)為增塑劑.孔隙率測定和掃描電鏡錶明:膜為多孔狀結構,孔隙率為16.4％～29.3％.孔徑在1～9 μm.紅外光譜結果錶明,磺痠基糰的-OH峰3 435 cm-1在加入LiCIO4之後,-OH的峰值移到3556cm-1.在加入NMP後,移到3 598 cm-1.交流阻抗研究錶明:在25℃下,電解質膜的LCI含量25％時,離子傳導率達2.60×10-6 S/cm,在膜中加入20％NMP時,離子傳導率達到3.86×10-3S/cm.
침대취합물전해질막전도솔저、역학성능차적문제,용일충함광산기단적액정리취물(LCI)、취갑기병희산갑지( PMMA)、고록산리(LiCIO4)용용액공혼법제성다공전해질막.채용광산기단작위전수리리자적체계,N-갑기필각완동(NMP)위증소제.공극솔측정화소묘전경표명:막위다공상결구,공극솔위16.4％～29.3％.공경재1～9 μm.홍외광보결과표명,광산기단적-OH봉3 435 cm-1재가입LiCIO4지후,-OH적봉치이도3556cm-1.재가입NMP후,이도3 598 cm-1.교류조항연구표명:재25℃하,전해질막적LCI함량25％시,리자전도솔체2.60×10-6 S/cm,재막중가입20％NMP시,리자전도솔체도3.86×10-3S/cm.
