光电子技术与信息
光電子技術與信息
광전자기술여신식
OPTOELECTRONIC TECHNOLOGY & INFORMATION
2005年
1期
27-29
,共3页
黄永攀%李道火%王锐%黄伟
黃永攀%李道火%王銳%黃偉
황영반%리도화%왕예%황위
激光诱导化学气相沉积%氮化硅%纳米
激光誘導化學氣相沉積%氮化硅%納米
격광유도화학기상침적%담화규%납미
激光诱导气相沉积法是制备纳米氮化硅粉末的主要方法之一.在制备纳米粉体过程中,各工艺参数的变化对粉体特征有很大的影响.在激光制Si3N4纳米粉中基本的运行参数有:激光强度(Ⅰ),反应池压力(P),反应火焰温度(T),反应气体配比(ΦSiH4/ΦNH3),反应气体流速(V)等.通过实验研究了各个工艺参数对粉体特征的影响并分析了其影响的原因.
激光誘導氣相沉積法是製備納米氮化硅粉末的主要方法之一.在製備納米粉體過程中,各工藝參數的變化對粉體特徵有很大的影響.在激光製Si3N4納米粉中基本的運行參數有:激光彊度(Ⅰ),反應池壓力(P),反應火燄溫度(T),反應氣體配比(ΦSiH4/ΦNH3),反應氣體流速(V)等.通過實驗研究瞭各箇工藝參數對粉體特徵的影響併分析瞭其影響的原因.
격광유도기상침적법시제비납미담화규분말적주요방법지일.재제비납미분체과정중,각공예삼수적변화대분체특정유흔대적영향.재격광제Si3N4납미분중기본적운행삼수유:격광강도(Ⅰ),반응지압력(P),반응화염온도(T),반응기체배비(ΦSiH4/ΦNH3),반응기체류속(V)등.통과실험연구료각개공예삼수대분체특정적영향병분석료기영향적원인.
