DC Plasma Jet CVD金刚石自支撑膜体结构的控制生长及其表面粗糙度的研究
DC Plasma Jet CVD금강석자지탱막체결구적공제생장급기표면조조도적연구
Controlling Deposition and Roughness of Free-standing Diamond Film Deposited by DC Plasma Jet CVD
  • 万方数据
    人工晶体学报 인공정체학보

    2005年 1期 21-24 ,共4页

    周祖源%陈广超%周有良%吕反修%唐伟忠%李成明%宋建华%佟玉梅

    주조원%진엄초%주유량%려반수%당위충%리성명%송건화%동옥매

    自支撑CVD金刚石薄膜%晶面取向%内应力%表面粗糙度 自支撐CVD金剛石薄膜%晶麵取嚮%內應力%錶麵粗糙度
    자지탱CVD금강석박막%정면취향%내응력%표면조조도
    在100kW级DC Plasma Jet CVD设备上,采用Ar-H2-CH4混合气体,通过控制工艺参数,在Mo衬底上获得不同占优晶面和应力状态的膜体结构.研究表明:不同取向的晶面在膜体中的分布不同,但各晶面随沉积温度的变化规律是相似的,在900℃左右容易获得较大的(220)晶面占优的膜体结构;薄膜的内应力沿晶体生长方向逐渐减小,且随沉积温度或甲烷浓度的增大而增大;具有高取向度的膜体将获得较为平整的表面.
    재100kW급DC Plasma Jet CVD설비상,채용Ar-H2-CH4혼합기체,통과공제공예삼수,재Mo츤저상획득불동점우정면화응력상태적막체결구.연구표명:불동취향적정면재막체중적분포불동,단각정면수침적온도적변화규률시상사적,재900℃좌우용역획득교대적(220)정면점우적막체결구;박막적내응력연정체생장방향축점감소,차수침적온도혹갑완농도적증대이증대;구유고취향도적막체장획득교위평정적표면.
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