材料保护
材料保護
재료보호
MATERIALS PROTECTION
2009年
2期
58-60
,共3页
吕树国%刘常升%李玉海%张罡%毕监智%金光
呂樹國%劉常升%李玉海%張罡%畢鑑智%金光
려수국%류상승%리옥해%장강%필감지%금광
氮离子束%轰击%电弧离子镀%TiN膜%显微硬度
氮離子束%轟擊%電弧離子鍍%TiN膜%顯微硬度
담리자속%굉격%전호리자도%TiN막%현미경도
电弧离子镀膜层中"大颗粒"的存在,降低了膜层质量,限制了其进一步应用.采用俄罗斯UVN 0.5D2I离子束辅助沉积电弧离子镀设备,对高速钢W18Cr4V上沉积的TiN膜层进行了氮离子束轰击.结果表明:TiN膜层表面"大颗粒"完全消失,凹坑浅而平整,粗糙度降低.膜层中较软的Ti和Ti2N向TiN转变,TiN(111)取向逐渐减弱,而(200)取向逐渐增强.膜层的显微硬度由原来的1 980 HV1N升高到2 310HV1N.
電弧離子鍍膜層中"大顆粒"的存在,降低瞭膜層質量,限製瞭其進一步應用.採用俄囉斯UVN 0.5D2I離子束輔助沉積電弧離子鍍設備,對高速鋼W18Cr4V上沉積的TiN膜層進行瞭氮離子束轟擊.結果錶明:TiN膜層錶麵"大顆粒"完全消失,凹坑淺而平整,粗糙度降低.膜層中較軟的Ti和Ti2N嚮TiN轉變,TiN(111)取嚮逐漸減弱,而(200)取嚮逐漸增彊.膜層的顯微硬度由原來的1 980 HV1N升高到2 310HV1N.
전호리자도막층중"대과립"적존재,강저료막층질량,한제료기진일보응용.채용아라사UVN 0.5D2I리자속보조침적전호리자도설비,대고속강W18Cr4V상침적적TiN막층진행료담리자속굉격.결과표명:TiN막층표면"대과립"완전소실,요갱천이평정,조조도강저.막층중교연적Ti화Ti2N향TiN전변,TiN(111)취향축점감약,이(200)취향축점증강.막층적현미경도유원래적1 980 HV1N승고도2 310HV1N.
