纳米技术与精密工程
納米技術與精密工程
납미기술여정밀공정
NANOTECHNOLOGY AND PRECISION ENGINEERING
2012年
4期
291-297
,共7页
邓姝皓%刘晗%郭洁%叶晓慧
鄧姝皓%劉晗%郭潔%葉曉慧
산주호%류함%곽길%협효혜
直流电沉积%纳米晶%Fe-Ni-Cr合金箔%机理
直流電沉積%納米晶%Fe-Ni-Cr閤金箔%機理
직류전침적%납미정%Fe-Ni-Cr합금박%궤리
在含三价铬的水溶液中,以氨基乙酸(gly)为配位剂,直流电沉积制备出Fe-Ni-Cr合金箔,研究了电流密度、铬盐浓度对合金箔成分的影响;采用扫描电子显微镜和X射线衍射对合金箔进行表征,并对合金箔的各项性能进行了研究;采用电化学方法对铬电沉积机理进行初探.确定直流电沉积Fe-Ni-Cr合金箔的最佳工艺条件为:电流密度为15A/dm2,铬盐质量浓度为50 g/L,温度为60℃,pH值为1.5.在此条件下可获得厚度为20~30 μm光亮、无裂纹的合金箔,其中Cr、Fe和Ni的质量分数分别为4%~6%、60%~65%、30%~35%.合金箔微观形貌为紧密堆砌的不规则板块状小晶粒;合金箔为纳米晶结构,晶粒尺寸在纳米范围内,主相是Cr与α-Fe或γ-Fe形成的间隙固溶体;合金箔中Cr含量提高,硬度、电阻及耐蚀性均随之提高.通过理论计算gly-Cr3+还原沉积的标准活化能为35.6kJ/mol,该过程由电子转移步骤控制.
在含三價鉻的水溶液中,以氨基乙痠(gly)為配位劑,直流電沉積製備齣Fe-Ni-Cr閤金箔,研究瞭電流密度、鉻鹽濃度對閤金箔成分的影響;採用掃描電子顯微鏡和X射線衍射對閤金箔進行錶徵,併對閤金箔的各項性能進行瞭研究;採用電化學方法對鉻電沉積機理進行初探.確定直流電沉積Fe-Ni-Cr閤金箔的最佳工藝條件為:電流密度為15A/dm2,鉻鹽質量濃度為50 g/L,溫度為60℃,pH值為1.5.在此條件下可穫得厚度為20~30 μm光亮、無裂紋的閤金箔,其中Cr、Fe和Ni的質量分數分彆為4%~6%、60%~65%、30%~35%.閤金箔微觀形貌為緊密堆砌的不規則闆塊狀小晶粒;閤金箔為納米晶結構,晶粒呎吋在納米範圍內,主相是Cr與α-Fe或γ-Fe形成的間隙固溶體;閤金箔中Cr含量提高,硬度、電阻及耐蝕性均隨之提高.通過理論計算gly-Cr3+還原沉積的標準活化能為35.6kJ/mol,該過程由電子轉移步驟控製.
재함삼개락적수용액중,이안기을산(gly)위배위제,직류전침적제비출Fe-Ni-Cr합금박,연구료전류밀도、락염농도대합금박성분적영향;채용소묘전자현미경화X사선연사대합금박진행표정,병대합금박적각항성능진행료연구;채용전화학방법대락전침적궤리진행초탐.학정직류전침적Fe-Ni-Cr합금박적최가공예조건위:전류밀도위15A/dm2,락염질량농도위50 g/L,온도위60℃,pH치위1.5.재차조건하가획득후도위20~30 μm광량、무렬문적합금박,기중Cr、Fe화Ni적질량분수분별위4%~6%、60%~65%、30%~35%.합금박미관형모위긴밀퇴체적불규칙판괴상소정립;합금박위납미정결구,정립척촌재납미범위내,주상시Cr여α-Fe혹γ-Fe형성적간극고용체;합금박중Cr함량제고,경도、전조급내식성균수지제고.통과이론계산gly-Cr3+환원침적적표준활화능위35.6kJ/mol,해과정유전자전이보취공제.