光电工程
光電工程
광전공정
OPTO-ELECTRONIC ENGINEERING
2010年
7期
64-69
,共6页
谢瑞清%李亚国%王健%陈贤华%黄浩%许乔
謝瑞清%李亞國%王健%陳賢華%黃浩%許喬
사서청%리아국%왕건%진현화%황호%허교
光学加工%抛光%工件面形%压力分布%抛光垫
光學加工%拋光%工件麵形%壓力分佈%拋光墊
광학가공%포광%공건면형%압력분포%포광점
抛光是光学加工中获得超精密表面的主要手段.为明确抛光垫特征对平面光学元件抛光面形的影响规律,分析了抛光垫与工件之间的界面接触形式,并建立接触力学分析模型,运用有限元方法分析了工件与抛光垫之间的接触压力分布情况,获得了抛光垫厚度及表面球半径等特征对抛光压力分布的影响规律.基于理论分析结果,提出了一种新的平面抛光面形控制技术.在实验中对一块尺寸为430 mm×430 mm×60 mm的熔石英元件进行了加工,通过将抛光垫表面修整为微凸面,同时对抛光转速比进行精确控制,实现了工件面形精度的快速收敛.
拋光是光學加工中穫得超精密錶麵的主要手段.為明確拋光墊特徵對平麵光學元件拋光麵形的影響規律,分析瞭拋光墊與工件之間的界麵接觸形式,併建立接觸力學分析模型,運用有限元方法分析瞭工件與拋光墊之間的接觸壓力分佈情況,穫得瞭拋光墊厚度及錶麵毬半徑等特徵對拋光壓力分佈的影響規律.基于理論分析結果,提齣瞭一種新的平麵拋光麵形控製技術.在實驗中對一塊呎吋為430 mm×430 mm×60 mm的鎔石英元件進行瞭加工,通過將拋光墊錶麵脩整為微凸麵,同時對拋光轉速比進行精確控製,實現瞭工件麵形精度的快速收斂.
포광시광학가공중획득초정밀표면적주요수단.위명학포광점특정대평면광학원건포광면형적영향규률,분석료포광점여공건지간적계면접촉형식,병건립접촉역학분석모형,운용유한원방법분석료공건여포광점지간적접촉압력분포정황,획득료포광점후도급표면구반경등특정대포광압력분포적영향규률.기우이론분석결과,제출료일충신적평면포광면형공제기술.재실험중대일괴척촌위430 mm×430 mm×60 mm적용석영원건진행료가공,통과장포광점표면수정위미철면,동시대포광전속비진행정학공제,실현료공건면형정도적쾌속수렴.
