中国激光
中國激光
중국격광
CHINESE JOURNAL OF LASERS
2004年
4期
477-481
,共5页
袁景梅%易葵%齐红基%范正修%邵建达
袁景梅%易葵%齊紅基%範正脩%邵建達
원경매%역규%제홍기%범정수%소건체
薄膜技术%193nm光学薄膜%光刻机%消光系数%水吸收%表面粗糙度
薄膜技術%193nm光學薄膜%光刻機%消光繫數%水吸收%錶麵粗糙度
박막기술%193nm광학박막%광각궤%소광계수%수흡수%표면조조도
193nm光学薄膜是100nm步进扫描光刻机系统中主要用到的光学薄膜.分析了膜料光学常数的不确定性、高折射率膜材料消光系数、水吸收以及膜层表面粗糙度对薄膜光学性能的影响.结果表明,要镀制出反射率大于98.5%的高反膜,必须将高折射率材料的消光系数k控制在0.0034以内,同时膜层表面的粗糙度σ控制在1nm以内.膜层性能同时还受其使用环境中水气含量及其水气中杂质含量的影响,要减少膜层水吸收的影响,就必须提高薄膜的致密度,采用离子成膜技术,或者改变膜层的使用环境.在考虑相关因素的前提下,设计了在光刻机曝光系统中主要用到的增透膜、高反膜,并分析了其实际性能与设计结果存在差别的原因.
193nm光學薄膜是100nm步進掃描光刻機繫統中主要用到的光學薄膜.分析瞭膜料光學常數的不確定性、高摺射率膜材料消光繫數、水吸收以及膜層錶麵粗糙度對薄膜光學性能的影響.結果錶明,要鍍製齣反射率大于98.5%的高反膜,必鬚將高摺射率材料的消光繫數k控製在0.0034以內,同時膜層錶麵的粗糙度σ控製在1nm以內.膜層性能同時還受其使用環境中水氣含量及其水氣中雜質含量的影響,要減少膜層水吸收的影響,就必鬚提高薄膜的緻密度,採用離子成膜技術,或者改變膜層的使用環境.在攷慮相關因素的前提下,設計瞭在光刻機曝光繫統中主要用到的增透膜、高反膜,併分析瞭其實際性能與設計結果存在差彆的原因.
193nm광학박막시100nm보진소묘광각궤계통중주요용도적광학박막.분석료막료광학상수적불학정성、고절사솔막재료소광계수、수흡수이급막층표면조조도대박막광학성능적영향.결과표명,요도제출반사솔대우98.5%적고반막,필수장고절사솔재료적소광계수k공제재0.0034이내,동시막층표면적조조도σ공제재1nm이내.막층성능동시환수기사용배경중수기함량급기수기중잡질함량적영향,요감소막층수흡수적영향,취필수제고박막적치밀도,채용리자성막기술,혹자개변막층적사용배경.재고필상관인소적전제하,설계료재광각궤폭광계통중주요용도적증투막、고반막,병분석료기실제성능여설계결과존재차별적원인.
