真空
真空
진공
VACUUM
2012年
3期
42-46
,共5页
CFD%均匀布气%数值模拟%PECVD
CFD%均勻佈氣%數值模擬%PECVD
CFD%균균포기%수치모의%PECVD
本文利用计算流体力学(CFD)方法对某等离子增强化学气相沉积(Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition,PECVD)反应室流场进行了数值模拟研究,通过改变匀流板布孔方式、进气管与匀流板距离、进气管出口形状和角度、压强等条件,研究反应器内流动的相应变化,给出了获得薄膜生长所需的最佳输运过程的条件,以形成稳定均匀的流场,从而保证薄膜的生长质量.根据本文优化后的匀流装置已实际加工应用,取得良好效果.
本文利用計算流體力學(CFD)方法對某等離子增彊化學氣相沉積(Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition,PECVD)反應室流場進行瞭數值模擬研究,通過改變勻流闆佈孔方式、進氣管與勻流闆距離、進氣管齣口形狀和角度、壓彊等條件,研究反應器內流動的相應變化,給齣瞭穫得薄膜生長所需的最佳輸運過程的條件,以形成穩定均勻的流場,從而保證薄膜的生長質量.根據本文優化後的勻流裝置已實際加工應用,取得良好效果.
본문이용계산류체역학(CFD)방법대모등리자증강화학기상침적(Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition,PECVD)반응실류장진행료수치모의연구,통과개변균류판포공방식、진기관여균류판거리、진기관출구형상화각도、압강등조건,연구반응기내류동적상응변화,급출료획득박막생장소수적최가수운과정적조건,이형성은정균균적류장,종이보증박막적생장질량.근거본문우화후적균류장치이실제가공응용,취득량호효과.
