真空科学与技术学报
真空科學與技術學報
진공과학여기술학보
JOURNAL OF VACUUM SCIENCE AND TECHNOLOGY
2011年
4期
465-469
,共5页
冷健%薛维%喻志农%卢维强%王华清%张东璞
冷健%薛維%喻誌農%盧維彊%王華清%張東璞
랭건%설유%유지농%로유강%왕화청%장동박
TiO2%SiO2%离子辅助%薄膜应力%哈特曼传感器
TiO2%SiO2%離子輔助%薄膜應力%哈特曼傳感器
TiO2%SiO2%리자보조%박막응력%합특만전감기
研究了离子能量在薄膜制备过程中对TiO2和SiO2薄膜应力的影响.用电子束蒸发的方法制备TiO2和SiO2薄膜,使用实验室自行设计制作的基于哈特曼传感器的薄膜应力仪在线监测TiO2和SiO2薄膜应力随膜厚的变化.结果表明,离子辅助沉积的TiO2薄膜张应力值要比传统工艺低40MPa,并且随着离子能量的增加,薄膜逐渐由张应力变为压应力,薄膜的最大折射率为2.56;而离子辅助的溅射效应在制备SiO2薄膜时比较明显,传统工艺制备的SiO2薄膜表现为压应力,而用离子辅助的方法制备的SiO2薄膜表现为张应力,并且随着离子能量的增加,薄膜变得疏松,折射率逐渐降低.
研究瞭離子能量在薄膜製備過程中對TiO2和SiO2薄膜應力的影響.用電子束蒸髮的方法製備TiO2和SiO2薄膜,使用實驗室自行設計製作的基于哈特曼傳感器的薄膜應力儀在線鑑測TiO2和SiO2薄膜應力隨膜厚的變化.結果錶明,離子輔助沉積的TiO2薄膜張應力值要比傳統工藝低40MPa,併且隨著離子能量的增加,薄膜逐漸由張應力變為壓應力,薄膜的最大摺射率為2.56;而離子輔助的濺射效應在製備SiO2薄膜時比較明顯,傳統工藝製備的SiO2薄膜錶現為壓應力,而用離子輔助的方法製備的SiO2薄膜錶現為張應力,併且隨著離子能量的增加,薄膜變得疏鬆,摺射率逐漸降低.
연구료리자능량재박막제비과정중대TiO2화SiO2박막응력적영향.용전자속증발적방법제비TiO2화SiO2박막,사용실험실자행설계제작적기우합특만전감기적박막응력의재선감측TiO2화SiO2박막응력수막후적변화.결과표명,리자보조침적적TiO2박막장응력치요비전통공예저40MPa,병차수착리자능량적증가,박막축점유장응력변위압응력,박막적최대절사솔위2.56;이리자보조적천사효응재제비SiO2박막시비교명현,전통공예제비적SiO2박막표현위압응력,이용리자보조적방법제비적SiO2박막표현위장응력,병차수착리자능량적증가,박막변득소송,절사솔축점강저.
