物理学报
物理學報
물이학보
2006年
6期
3124-3127
,共4页
侯海虹%孙喜莲%申雁鸣%邵建达%范正修%易葵
侯海虹%孫喜蓮%申雁鳴%邵建達%範正脩%易葵
후해홍%손희련%신안명%소건체%범정수%역규
氧化锆%表面粗糙度%标量散射%电子束蒸发
氧化鋯%錶麵粗糙度%標量散射%電子束蒸髮
양화고%표면조조도%표량산사%전자속증발
利用电子束蒸发工艺,以Ag层为衬底,沉积了中心波长为632.8nm的氧化锆(ZrO2)薄膜,膜层厚度在80-480nm范围内变化.研究了不同厚度样品的粗糙度变化规律和表面散射特性.结果发现,随着膜层厚度的逐渐增加,其表面均方根(RMS)粗糙度和总积分散射(TIS)均呈现出先减小后增大的趋势.利用非相关表面粗糙度的散射模型对样品的TIS特性进行了理论计算,所得结果与测量结果相一致.
利用電子束蒸髮工藝,以Ag層為襯底,沉積瞭中心波長為632.8nm的氧化鋯(ZrO2)薄膜,膜層厚度在80-480nm範圍內變化.研究瞭不同厚度樣品的粗糙度變化規律和錶麵散射特性.結果髮現,隨著膜層厚度的逐漸增加,其錶麵均方根(RMS)粗糙度和總積分散射(TIS)均呈現齣先減小後增大的趨勢.利用非相關錶麵粗糙度的散射模型對樣品的TIS特性進行瞭理論計算,所得結果與測量結果相一緻.
이용전자속증발공예,이Ag층위츤저,침적료중심파장위632.8nm적양화고(ZrO2)박막,막층후도재80-480nm범위내변화.연구료불동후도양품적조조도변화규률화표면산사특성.결과발현,수착막층후도적축점증가,기표면균방근(RMS)조조도화총적분산사(TIS)균정현출선감소후증대적추세.이용비상관표면조조도적산사모형대양품적TIS특성진행료이론계산,소득결과여측량결과상일치.
