红外与激光工程
紅外與激光工程
홍외여격광공정
INFRARED AND LASER ENGINEERING
2007年
z1期
533-537
,共5页
全积分散射%积分球%均方根粗糙度%超光滑
全積分散射%積分毬%均方根粗糙度%超光滑
전적분산사%적분구%균방근조조도%초광활
运用全积分散射理论,结合积分球的光度特性,研制了一种用于粗糙度测量的比较法全积分散射仪.用原子力显微镜分析了用相同的抛光工艺制备的三片超光滑硅片的表面粗糙度,其结果均在0.14～0.19 nm之间,说明了此抛光工艺的稳定性;用原子力显微镜测量值为0.143 nm均方根粗糙度的超光滑硅片作为参考样片,比较了其他三片相同工艺制备的硅表面的全积分散射测量结果,结果显示与标准片的测量结果非常接近,均在0.14～O.18 nm之间,验证了全积分散射法的合理性;进一步分析了锗、铝、碳化硅等表面的全积分散射测量结果,结果呈现出明显的差异,说明该方法具有较高的灵敏度和较大的动态范围.
運用全積分散射理論,結閤積分毬的光度特性,研製瞭一種用于粗糙度測量的比較法全積分散射儀.用原子力顯微鏡分析瞭用相同的拋光工藝製備的三片超光滑硅片的錶麵粗糙度,其結果均在0.14～0.19 nm之間,說明瞭此拋光工藝的穩定性;用原子力顯微鏡測量值為0.143 nm均方根粗糙度的超光滑硅片作為參攷樣片,比較瞭其他三片相同工藝製備的硅錶麵的全積分散射測量結果,結果顯示與標準片的測量結果非常接近,均在0.14～O.18 nm之間,驗證瞭全積分散射法的閤理性;進一步分析瞭鍺、鋁、碳化硅等錶麵的全積分散射測量結果,結果呈現齣明顯的差異,說明該方法具有較高的靈敏度和較大的動態範圍.
운용전적분산사이론,결합적분구적광도특성,연제료일충용우조조도측량적비교법전적분산사의.용원자력현미경분석료용상동적포광공예제비적삼편초광활규편적표면조조도,기결과균재0.14～0.19 nm지간,설명료차포광공예적은정성;용원자력현미경측량치위0.143 nm균방근조조도적초광활규편작위삼고양편,비교료기타삼편상동공예제비적규표면적전적분산사측량결과,결과현시여표준편적측량결과비상접근,균재0.14～O.18 nm지간,험증료전적분산사법적합이성;진일보분석료타、려、탄화규등표면적전적분산사측량결과,결과정현출명현적차이,설명해방법구유교고적령민도화교대적동태범위.
