功能材料与器件学报
功能材料與器件學報
공능재료여기건학보
JOURNAL OF FUNCTIONAL MATERIALS AND DEVICES
2008年
5期
911-914
,共4页
闫丹%吴平%邱宏%俞必强%赵云清%张师平%吕反修
閆丹%吳平%邱宏%俞必彊%趙雲清%張師平%呂反脩
염단%오평%구굉%유필강%조운청%장사평%려반수
射频磁控溅射%HfO2薄膜%衬底温度%微观结构
射頻磁控濺射%HfO2薄膜%襯底溫度%微觀結構
사빈자공천사%HfO2박막%츤저온도%미관결구
采用射频磁控溅射法在氧氩比为0.2的混合气氛中,分别在室温、100℃、200℃、250℃、300℃、350℃和400℃温度下,在P-Si(100)衬底上制备了HfO2薄膜,并用SEM、XRD和AFM研究了衬底温度与薄膜沉积速率对微结构的影响.结果表明:随着衬底温度的增加,薄膜沉积速率呈减小趋势.室温沉积的HfO2薄膜为非晶态,当衬底温度高于100℃,薄膜出现单斜晶相,随着衬底温度继续增加,(111)择优取向更加明显,晶粒尺寸增大,薄膜表面粗糙度减小.
採用射頻磁控濺射法在氧氬比為0.2的混閤氣氛中,分彆在室溫、100℃、200℃、250℃、300℃、350℃和400℃溫度下,在P-Si(100)襯底上製備瞭HfO2薄膜,併用SEM、XRD和AFM研究瞭襯底溫度與薄膜沉積速率對微結構的影響.結果錶明:隨著襯底溫度的增加,薄膜沉積速率呈減小趨勢.室溫沉積的HfO2薄膜為非晶態,噹襯底溫度高于100℃,薄膜齣現單斜晶相,隨著襯底溫度繼續增加,(111)擇優取嚮更加明顯,晶粒呎吋增大,薄膜錶麵粗糙度減小.
채용사빈자공천사법재양아비위0.2적혼합기분중,분별재실온、100℃、200℃、250℃、300℃、350℃화400℃온도하,재P-Si(100)츤저상제비료HfO2박막,병용SEM、XRD화AFM연구료츤저온도여박막침적속솔대미결구적영향.결과표명:수착츤저온도적증가,박막침적속솔정감소추세.실온침적적HfO2박막위비정태,당츤저온도고우100℃,박막출현단사정상,수착츤저온도계속증가,(111)택우취향경가명현,정립척촌증대,박막표면조조도감소.
