真空科学与技术学报
真空科學與技術學報
진공과학여기술학보
JOURNAL OF VACUUM SCIENCE AND TECHNOLOGY
2005年
1期
69-74
,共6页
董骐%罗蓉平%张守忠%杜建%钟钢%田凯%文学春%刘祥武
董騏%囉蓉平%張守忠%杜建%鐘鋼%田凱%文學春%劉祥武
동기%라용평%장수충%두건%종강%전개%문학춘%류상무
气离溅射%离子源%阳极层流%溅射%氮化钛%离子镀膜%中频%脉冲直流
氣離濺射%離子源%暘極層流%濺射%氮化鈦%離子鍍膜%中頻%脈遲直流
기리천사%리자원%양겁층류%천사%담화태%리자도막%중빈%맥충직류
本文详细介绍了气体离子源增强磁控溅射(气离溅射)反应离子镀膜技术和系统配置.特别是首次提出空分气离溅射的新概念,实现了磁控溅射金属镀膜过程和气体离子轰击化学反应过程在真空室内空间上的分离,从而保证空分气离溅射反应离子镀膜过程的长时间稳定性、重复性和一致性.当磁控溅射源采用中频电源驱动、最新开发的气体离子源采用脉冲直流电源后,实现了最佳的设备组合,可镀制出高品质的TiN膜层.
本文詳細介紹瞭氣體離子源增彊磁控濺射(氣離濺射)反應離子鍍膜技術和繫統配置.特彆是首次提齣空分氣離濺射的新概唸,實現瞭磁控濺射金屬鍍膜過程和氣體離子轟擊化學反應過程在真空室內空間上的分離,從而保證空分氣離濺射反應離子鍍膜過程的長時間穩定性、重複性和一緻性.噹磁控濺射源採用中頻電源驅動、最新開髮的氣體離子源採用脈遲直流電源後,實現瞭最佳的設備組閤,可鍍製齣高品質的TiN膜層.
본문상세개소료기체리자원증강자공천사(기리천사)반응리자도막기술화계통배치.특별시수차제출공분기리천사적신개념,실현료자공천사금속도막과정화기체리자굉격화학반응과정재진공실내공간상적분리,종이보증공분기리천사반응리자도막과정적장시간은정성、중복성화일치성.당자공천사원채용중빈전원구동、최신개발적기체리자원채용맥충직류전원후,실현료최가적설비조합,가도제출고품질적TiN막층.
