电子学报
電子學報
전자학보
ACTA ELECTRONICA SINICA
2010年
3期
617-619,631
,共4页
电子束光刻%邻近效应%曝光强度%三维能量沉积模型
電子束光刻%鄰近效應%曝光彊度%三維能量沉積模型
전자속광각%린근효응%폭광강도%삼유능량침적모형
本文利用Monte Carlo方法及优化的散射模型,对电子束光刻中电子在抗蚀剂中的散射过程进行了模拟,通过分层的方法,对厚层抗蚀剂不同深度处的能量沉积密度进行了计算,建立了电子束光刻厚层抗蚀剂的三维能量沉积模型.根据建立的三维能量沉积模型,采用重复增量扫描策略对正梯锥三维微结构进行了光刻仿真.理论分析和仿真结果表明,利用分层的三维能量沉积分布模型能更精确地实现电子束光刻的三维仿真.
本文利用Monte Carlo方法及優化的散射模型,對電子束光刻中電子在抗蝕劑中的散射過程進行瞭模擬,通過分層的方法,對厚層抗蝕劑不同深度處的能量沉積密度進行瞭計算,建立瞭電子束光刻厚層抗蝕劑的三維能量沉積模型.根據建立的三維能量沉積模型,採用重複增量掃描策略對正梯錐三維微結構進行瞭光刻倣真.理論分析和倣真結果錶明,利用分層的三維能量沉積分佈模型能更精確地實現電子束光刻的三維倣真.
본문이용Monte Carlo방법급우화적산사모형,대전자속광각중전자재항식제중적산사과정진행료모의,통과분층적방법,대후층항식제불동심도처적능량침적밀도진행료계산,건립료전자속광각후층항식제적삼유능량침적모형.근거건립적삼유능량침적모형,채용중복증량소묘책략대정제추삼유미결구진행료광각방진.이론분석화방진결과표명,이용분층적삼유능량침적분포모형능경정학지실현전자속광각적삼유방진.
