真空电子技术
真空電子技術
진공전자기술
VACUUM ELECTRONICS
2011年
4期
72-74,84
,共4页
阴极%Os膜%互扩散
陰極%Os膜%互擴散
음겁%Os막%호확산
介绍了对覆锇扩散阴极锇膜与钨基间互扩散过程的研究结果.通过SEM对不同工作时间的阴极发射表面及纵向剖面的形貌进行分析,采用EDS对实验阴极的表面及纵向剖面进行元素成分的分析.研究表明,随工作时间的不同,阴极表面及纵向剖面Os-W浓度发生变化,呈现明显的扩散趋势.
介紹瞭對覆鋨擴散陰極鋨膜與鎢基間互擴散過程的研究結果.通過SEM對不同工作時間的陰極髮射錶麵及縱嚮剖麵的形貌進行分析,採用EDS對實驗陰極的錶麵及縱嚮剖麵進行元素成分的分析.研究錶明,隨工作時間的不同,陰極錶麵及縱嚮剖麵Os-W濃度髮生變化,呈現明顯的擴散趨勢.
개소료대복철확산음겁철막여오기간호확산과정적연구결과.통과SEM대불동공작시간적음겁발사표면급종향부면적형모진행분석,채용EDS대실험음겁적표면급종향부면진행원소성분적분석.연구표명,수공작시간적불동,음겁표면급종향부면Os-W농도발생변화,정현명현적확산추세.
