材料导报
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재료도보
MATERIALS REVIEW
2009年
16期
68-70
,共3页
PVD Si涂层%RB SiC%SSiC%表面粗糙度均方根RMS%反射率
PVD Si塗層%RB SiC%SSiC%錶麵粗糙度均方根RMS%反射率
PVD Si도층%RB SiC%SSiC%표면조조도균방근RMS%반사솔
为了获得高质量的光学表面,采用RF磁控溅射法在RB SiC和SSiC陶瓷表面涂覆一层结构致密的PVD Si涂层.采用XRD、AFM和表面轮廓仪对抛光后的PVDSi涂层进行了表征,并在可见光波长范围内测量了涂层的反射率.结果表明,当RB SiC和SSiC陶瓷表面涂覆PVD Si涂层后,抛光后其表面缺陷明显减少,表面粗糙度的均方根RMS可达埃级,反射率提升幅度明显.并简单分析了反射率提高的主要原因.
為瞭穫得高質量的光學錶麵,採用RF磁控濺射法在RB SiC和SSiC陶瓷錶麵塗覆一層結構緻密的PVD Si塗層.採用XRD、AFM和錶麵輪廓儀對拋光後的PVDSi塗層進行瞭錶徵,併在可見光波長範圍內測量瞭塗層的反射率.結果錶明,噹RB SiC和SSiC陶瓷錶麵塗覆PVD Si塗層後,拋光後其錶麵缺陷明顯減少,錶麵粗糙度的均方根RMS可達埃級,反射率提升幅度明顯.併簡單分析瞭反射率提高的主要原因.
위료획득고질량적광학표면,채용RF자공천사법재RB SiC화SSiC도자표면도복일층결구치밀적PVD Si도층.채용XRD、AFM화표면륜곽의대포광후적PVDSi도층진행료표정,병재가견광파장범위내측량료도층적반사솔.결과표명,당RB SiC화SSiC도자표면도복PVD Si도층후,포광후기표면결함명현감소,표면조조도적균방근RMS가체애급,반사솔제승폭도명현.병간단분석료반사솔제고적주요원인.
