光电工程
光電工程
광전공정
OPTO-ELECTRONIC ENGINEERING
2006年
4期
50-54
,共5页
段茜%姚欣%陈铭勇%马延琴%刘世杰%唐雄贵%杜惊雷
段茜%姚訢%陳銘勇%馬延琴%劉世傑%唐雄貴%杜驚雷
단천%요흔%진명용%마연금%류세걸%당웅귀%두량뢰
厚层抗蚀剂曝光模型%显影轮廓%显影线宽%边墙陡度
厚層抗蝕劑曝光模型%顯影輪廓%顯影線寬%邊牆陡度
후층항식제폭광모형%현영륜곽%현영선관%변장두도
考虑厚胶曝光过程中非线性因素的影响及其显影特点,用一套随抗蚀剂厚度发生变化的曝光参数改进的Dill曝光模型,仿真厚层抗蚀剂光刻过程,并比较新曝光模型与原有Dill模型模拟的结果差异.模拟显示,用新曝光模型获得的厚抗蚀剂显影轮廓与实验结果吻合较好;并对厚胶光刻成像机理进行了讨论.通过分析正性厚层抗蚀剂AZ4562的显影轮廓,给出其显影线宽及边墙陡度随显影时间的变化规律,提出应以获得最大边墙陡度作为优化显影时间的思想.对厚度5μm和15μm的抗蚀剂,经计算,可获得良好的抗蚀剂浮雕轮廓的优化显影时间分别为98s和208s.
攷慮厚膠曝光過程中非線性因素的影響及其顯影特點,用一套隨抗蝕劑厚度髮生變化的曝光參數改進的Dill曝光模型,倣真厚層抗蝕劑光刻過程,併比較新曝光模型與原有Dill模型模擬的結果差異.模擬顯示,用新曝光模型穫得的厚抗蝕劑顯影輪廓與實驗結果吻閤較好;併對厚膠光刻成像機理進行瞭討論.通過分析正性厚層抗蝕劑AZ4562的顯影輪廓,給齣其顯影線寬及邊牆陡度隨顯影時間的變化規律,提齣應以穫得最大邊牆陡度作為優化顯影時間的思想.對厚度5μm和15μm的抗蝕劑,經計算,可穫得良好的抗蝕劑浮彫輪廓的優化顯影時間分彆為98s和208s.
고필후효폭광과정중비선성인소적영향급기현영특점,용일투수항식제후도발생변화적폭광삼수개진적Dill폭광모형,방진후층항식제광각과정,병비교신폭광모형여원유Dill모형모의적결과차이.모의현시,용신폭광모형획득적후항식제현영륜곽여실험결과문합교호;병대후효광각성상궤리진행료토론.통과분석정성후층항식제AZ4562적현영륜곽,급출기현영선관급변장두도수현영시간적변화규률,제출응이획득최대변장두도작위우화현영시간적사상.대후도5μm화15μm적항식제,경계산,가획득량호적항식제부조륜곽적우화현영시간분별위98s화208s.
