电子工业专用设备
電子工業專用設備
전자공업전용설비
EQUIPMENT FOR ELECTRONIC PRODUCTS MANUFACTURING
2001年
2期
21-26
,共6页
热场%三温区%控温精度%炉温均匀度%晶体炉
熱場%三溫區%控溫精度%爐溫均勻度%晶體爐
열장%삼온구%공온정도%로온균균도%정체로
结合LBO、BBO等氧化物晶体生长的工艺条件,在一台包含三温区的晶体生长炉中进行热场控制的实验研究,实验结果表明该炉室恒温区内控温精度≤±0.2℃;炉温均匀度≤±1℃.
結閤LBO、BBO等氧化物晶體生長的工藝條件,在一檯包含三溫區的晶體生長爐中進行熱場控製的實驗研究,實驗結果錶明該爐室恆溫區內控溫精度≤±0.2℃;爐溫均勻度≤±1℃.
결합LBO、BBO등양화물정체생장적공예조건,재일태포함삼온구적정체생장로중진행열장공제적실험연구,실험결과표명해로실항온구내공온정도≤±0.2℃;로온균균도≤±1℃.
