电子显微学报
電子顯微學報
전자현미학보
JOURNAL OF CHINESE ELECTRON MICROSCOPY SOCIETY
1999年
4期
456-461
,共6页
张素新%严春杰%路湘豫%肖少泉
張素新%嚴春傑%路湘豫%肖少泉
장소신%엄춘걸%로상예%초소천
非导电地质样品%扫描电镜%镀膜方法%镀膜厚度%图像质量
非導電地質樣品%掃描電鏡%鍍膜方法%鍍膜厚度%圖像質量
비도전지질양품%소묘전경%도막방법%도막후도%도상질량
应用扫描电镜对非导电地质样品进行观察时,首先要在其表面喷镀导电膜.试验表明,扫描电镜图像的质量是同喷镀导电膜的方法和厚度有着密切的关系.根据地质试样的性质与观察目的不同,采取最佳的镀膜技术,才能获得良好的图像质量.本文确定了各类矿物、岩石、矿石及古生物等非导电地质样品的最佳镀膜技术条件.
應用掃描電鏡對非導電地質樣品進行觀察時,首先要在其錶麵噴鍍導電膜.試驗錶明,掃描電鏡圖像的質量是同噴鍍導電膜的方法和厚度有著密切的關繫.根據地質試樣的性質與觀察目的不同,採取最佳的鍍膜技術,纔能穫得良好的圖像質量.本文確定瞭各類礦物、巖石、礦石及古生物等非導電地質樣品的最佳鍍膜技術條件.
응용소묘전경대비도전지질양품진행관찰시,수선요재기표면분도도전막.시험표명,소묘전경도상적질량시동분도도전막적방법화후도유착밀절적관계.근거지질시양적성질여관찰목적불동,채취최가적도막기술,재능획득량호적도상질량.본문학정료각류광물、암석、광석급고생물등비도전지질양품적최가도막기술조건.
