光学精密工程
光學精密工程
광학정밀공정
OPTICS AND PRECISION ENGINEERING
2009年
9期
2184-2190
,共7页
邵力耕%杜立群%刘冲%王立鼎
邵力耕%杜立群%劉遲%王立鼎
소력경%두립군%류충%왕립정
微电铸%阴极电流密度%流体%三维数值仿真
微電鑄%陰極電流密度%流體%三維數值倣真
미전주%음겁전류밀도%류체%삼유수치방진
研究了LIGA/UV-LIGA的核心技术微电铸的内在规律,对影响铸层生长的阴极电流密度和流体流场进行了数值分析.以微流控芯片微模具上的十字电铸层为研究对象,建立了微电铸的数学模型.给出了描述微电铸体系电流密度和流体流场的偏微分方程,运用有限元法对微电铸体系进行三维数值仿真,得到了电流密度分布和流体流场分布的数值结果.选择十字铸层上的测量点,由该点处电流密度和流体流速仿真数据计算出微电铸4 h的铸层生长高度仿真值,并与相同工艺条件下的微电铸实验铸层生长高度进行对比.结果显示,对应各测量点微电铸生长高度仿真值和实验值的变化趋势接近,绝对偏差小,最大绝对偏差为4.437 μm,最小绝对偏差为0.264 μm.实验表明这种数值仿真方法适用于微电铸工艺设计的辅助分析,可缩短微电铸工艺的开发周期.
研究瞭LIGA/UV-LIGA的覈心技術微電鑄的內在規律,對影響鑄層生長的陰極電流密度和流體流場進行瞭數值分析.以微流控芯片微模具上的十字電鑄層為研究對象,建立瞭微電鑄的數學模型.給齣瞭描述微電鑄體繫電流密度和流體流場的偏微分方程,運用有限元法對微電鑄體繫進行三維數值倣真,得到瞭電流密度分佈和流體流場分佈的數值結果.選擇十字鑄層上的測量點,由該點處電流密度和流體流速倣真數據計算齣微電鑄4 h的鑄層生長高度倣真值,併與相同工藝條件下的微電鑄實驗鑄層生長高度進行對比.結果顯示,對應各測量點微電鑄生長高度倣真值和實驗值的變化趨勢接近,絕對偏差小,最大絕對偏差為4.437 μm,最小絕對偏差為0.264 μm.實驗錶明這種數值倣真方法適用于微電鑄工藝設計的輔助分析,可縮短微電鑄工藝的開髮週期.
연구료LIGA/UV-LIGA적핵심기술미전주적내재규률,대영향주층생장적음겁전류밀도화류체류장진행료수치분석.이미류공심편미모구상적십자전주층위연구대상,건립료미전주적수학모형.급출료묘술미전주체계전류밀도화류체류장적편미분방정,운용유한원법대미전주체계진행삼유수치방진,득도료전류밀도분포화류체류장분포적수치결과.선택십자주층상적측량점,유해점처전류밀도화류체류속방진수거계산출미전주4 h적주층생장고도방진치,병여상동공예조건하적미전주실험주층생장고도진행대비.결과현시,대응각측량점미전주생장고도방진치화실험치적변화추세접근,절대편차소,최대절대편차위4.437 μm,최소절대편차위0.264 μm.실험표명저충수치방진방법괄용우미전주공예설계적보조분석,가축단미전주공예적개발주기.
