人工晶体学报
人工晶體學報
인공정체학보
2011年
5期
1145-1149
,共5页
于盛旺%范朋伟%李义锋%刘艳青%唐伟忠
于盛旺%範朋偉%李義鋒%劉豔青%唐偉忠
우성왕%범붕위%리의봉%류염청%당위충
椭球谐振腔式MPCVD装置%金刚石膜%高功率%气体流量%生长速率
橢毬諧振腔式MPCVD裝置%金剛石膜%高功率%氣體流量%生長速率
타구해진강식MPCVD장치%금강석막%고공솔%기체류량%생장속솔
使用自行研制的椭球谐振腔式MPCVD装置,以H2-CH4为气源,在输入功率为9 kW,沉积压力为1.7 ×104 Pa和不同的气体流量条件下制备了金刚石膜.利用扫描电镜、激光拉曼谱对金刚石膜的表面和断口形貌、金刚石膜的品质等进行了表征.实验结果表明,利用椭球谐振腔式MPCVD装置能够在较高的功率下进行大面积金刚石膜的沉积；在高功率条件下,较高质量的金刚石膜的沉积速率可以达到4 ～5 μm·h-1的水平,而气体的流量则会显著影响金刚石膜的品质及其沉积速率.
使用自行研製的橢毬諧振腔式MPCVD裝置,以H2-CH4為氣源,在輸入功率為9 kW,沉積壓力為1.7 ×104 Pa和不同的氣體流量條件下製備瞭金剛石膜.利用掃描電鏡、激光拉曼譜對金剛石膜的錶麵和斷口形貌、金剛石膜的品質等進行瞭錶徵.實驗結果錶明,利用橢毬諧振腔式MPCVD裝置能夠在較高的功率下進行大麵積金剛石膜的沉積；在高功率條件下,較高質量的金剛石膜的沉積速率可以達到4 ～5 μm·h-1的水平,而氣體的流量則會顯著影響金剛石膜的品質及其沉積速率.
사용자행연제적타구해진강식MPCVD장치,이H2-CH4위기원,재수입공솔위9 kW,침적압력위1.7 ×104 Pa화불동적기체류량조건하제비료금강석막.이용소묘전경、격광랍만보대금강석막적표면화단구형모、금강석막적품질등진행료표정.실험결과표명,이용타구해진강식MPCVD장치능구재교고적공솔하진행대면적금강석막적침적；재고공솔조건하,교고질량적금강석막적침적속솔가이체도4 ～5 μm·h-1적수평,이기체적류량칙회현저영향금강석막적품질급기침적속솔.
