电子与封装
電子與封裝
전자여봉장
EIECTRONICS AND PACKAGING
2009年
3期
32-35
,共4页
静电吸盘%双极性%夹持电压%偏压补偿%冷却气体
靜電吸盤%雙極性%夾持電壓%偏壓補償%冷卻氣體
정전흡반%쌍겁성%협지전압%편압보상%냉각기체
在VLSI制造过程中,静电吸盘(ESC)以其良好的热传导性及较少的缺陷产生率已广泛应用于ETCH、CVD等制程中.文章以LAM Research公司TCP9400等离子刻蚀机在多晶硅刻蚀的生产实践为例,分析了这种双极性静电吸盘(bipolar-ESC)的结构特点和其工作原理,并逐一分析了在其使用过程中各参数补偿电压、夹持电压、冷却气体等对产品良率的影响,并提出了对生产过程的监控参数,以达到及时发现问题、解决问题的目的.
在VLSI製造過程中,靜電吸盤(ESC)以其良好的熱傳導性及較少的缺陷產生率已廣汎應用于ETCH、CVD等製程中.文章以LAM Research公司TCP9400等離子刻蝕機在多晶硅刻蝕的生產實踐為例,分析瞭這種雙極性靜電吸盤(bipolar-ESC)的結構特點和其工作原理,併逐一分析瞭在其使用過程中各參數補償電壓、夾持電壓、冷卻氣體等對產品良率的影響,併提齣瞭對生產過程的鑑控參數,以達到及時髮現問題、解決問題的目的.
재VLSI제조과정중,정전흡반(ESC)이기량호적열전도성급교소적결함산생솔이엄범응용우ETCH、CVD등제정중.문장이LAM Research공사TCP9400등리자각식궤재다정규각식적생산실천위례,분석료저충쌍겁성정전흡반(bipolar-ESC)적결구특점화기공작원리,병축일분석료재기사용과정중각삼수보상전압、협지전압、냉각기체등대산품량솔적영향,병제출료대생산과정적감공삼수,이체도급시발현문제、해결문제적목적.
