半导体光电
半導體光電
반도체광전
SEMICONDUCTOR OPTOELECTRONICS
2005年
z1期
19-21,48
,共4页
TDI%CCD%高分辨率
TDI%CCD%高分辨率
TDI%CCD%고분변솔
采用硅工艺,实现了高分辨率4 096×96 TDI 可见光CCD设计及制作.本文介绍了高分辨率4 096×96 TDI可见光CCD的结构设计及制作,给出了测试结果.
採用硅工藝,實現瞭高分辨率4 096×96 TDI 可見光CCD設計及製作.本文介紹瞭高分辨率4 096×96 TDI可見光CCD的結構設計及製作,給齣瞭測試結果.
채용규공예,실현료고분변솔4 096×96 TDI 가견광CCD설계급제작.본문개소료고분변솔4 096×96 TDI가견광CCD적결구설계급제작,급출료측시결과.