材料热处理学报
材料熱處理學報
재료열처이학보
TRANSACTIONS OF MATERIALS AND HEAT TREATMENT
2007年
2期
30-32
,共3页
杨钰瑛%孙维连%李新领%王会强%孙玉梅
楊鈺瑛%孫維連%李新領%王會彊%孫玉梅
양옥영%손유련%리신령%왕회강%손옥매
中频溅射%孪生对靶%氮化锆%薄膜
中頻濺射%孿生對靶%氮化鋯%薄膜
중빈천사%련생대파%담화고%박막
采用中频反应磁控溅射技术沉积ZrN薄膜,在真空镀膜机内对称安装了3对矩形孪生靶.利用等离子体发射光谱和质谱仪QMS200分别实时监控真空炉内靶材表面的谱线变化和各种气氛的分压强,并通过控制系统氮气流量自动调控,从而消除了靶中毒和打火现象,确保了溅射镀膜的稳定进行.通过对氮化锆膜层的显微组织观察、X射线衍射和俄歇半定量分析,沉积的氮化锆薄膜膜层致密,与基体的结合牢固.结果表明:当炉内氮气分压强为45%,控制靶电压200V,靶电流为25A,逐步调节Ar与N2比例,可获得成分均匀,膜层致密,结合力较好的金黄色氮化锆薄膜.
採用中頻反應磁控濺射技術沉積ZrN薄膜,在真空鍍膜機內對稱安裝瞭3對矩形孿生靶.利用等離子體髮射光譜和質譜儀QMS200分彆實時鑑控真空爐內靶材錶麵的譜線變化和各種氣氛的分壓彊,併通過控製繫統氮氣流量自動調控,從而消除瞭靶中毒和打火現象,確保瞭濺射鍍膜的穩定進行.通過對氮化鋯膜層的顯微組織觀察、X射線衍射和俄歇半定量分析,沉積的氮化鋯薄膜膜層緻密,與基體的結閤牢固.結果錶明:噹爐內氮氣分壓彊為45%,控製靶電壓200V,靶電流為25A,逐步調節Ar與N2比例,可穫得成分均勻,膜層緻密,結閤力較好的金黃色氮化鋯薄膜.
채용중빈반응자공천사기술침적ZrN박막,재진공도막궤내대칭안장료3대구형련생파.이용등리자체발사광보화질보의QMS200분별실시감공진공로내파재표면적보선변화화각충기분적분압강,병통과공제계통담기류량자동조공,종이소제료파중독화타화현상,학보료천사도막적은정진행.통과대담화고막층적현미조직관찰、X사선연사화아헐반정량분석,침적적담화고박막막층치밀,여기체적결합뢰고.결과표명:당로내담기분압강위45%,공제파전압200V,파전류위25A,축보조절Ar여N2비례,가획득성분균균,막층치밀,결합력교호적금황색담화고박막.
