功能材料与器件学报
功能材料與器件學報
공능재료여기건학보
JOURNAL OF FUNCTIONAL MATERIALS AND DEVICES
2006年
6期
498-500
,共3页
杨银堂%贾护军%李跃进%柴常春%王平
楊銀堂%賈護軍%李躍進%柴常春%王平
양은당%가호군%리약진%시상춘%왕평
碳化硅%欧姆接触%离子注入%传输线法
碳化硅%歐姆接觸%離子註入%傳輸線法
탄화규%구모접촉%리자주입%전수선법
采用Ti/Ni/Au多层金属在高掺杂n型4H-SiC外延层上制作了欧姆接触测试图形,通过传输线法(Transmission Line Method,TLM)测量得到的最小比接触电阻为1.4×10-5Ω·cm2,经500℃N2老化后接触电阻大约有一个数量级的增加并保持稳定.
採用Ti/Ni/Au多層金屬在高摻雜n型4H-SiC外延層上製作瞭歐姆接觸測試圖形,通過傳輸線法(Transmission Line Method,TLM)測量得到的最小比接觸電阻為1.4×10-5Ω·cm2,經500℃N2老化後接觸電阻大約有一箇數量級的增加併保持穩定.
채용Ti/Ni/Au다층금속재고참잡n형4H-SiC외연층상제작료구모접촉측시도형,통과전수선법(Transmission Line Method,TLM)측량득도적최소비접촉전조위1.4×10-5Ω·cm2,경500℃N2노화후접촉전조대약유일개수량급적증가병보지은정.
