西安工业大学学报
西安工業大學學報
서안공업대학학보
JOURNAL OF XI'AN TECHNOLOGICAL UNIVERSITY
2010年
1期
17-20
,共4页
磁约束%磁控溅射源%靶源特性测试%靶材利用率
磁約束%磁控濺射源%靶源特性測試%靶材利用率
자약속%자공천사원%파원특성측시%파재이용솔
为了提高靶材利用率,将磁约束原理应用在磁控溅射技术中,设计了一款直流矩形平面磁控溅射源.测量了磁约束磁控溅射源原理样机靶面磁场强度,研究了不同工作真空度下的伏安特性以及磁控溅射电源工作在不同模式下靶电压与工作真空度之间的关系,确定了磁控溅射源正常工作时的最佳工艺参数,为磁约束磁控溅射源原理样机的结构改进提供依据.实验表明:磁控溅射靶稳定工作的电压范围是300～700 V,靶电流可达到1.2 A,最高工作真空度为2 Pa.
為瞭提高靶材利用率,將磁約束原理應用在磁控濺射技術中,設計瞭一款直流矩形平麵磁控濺射源.測量瞭磁約束磁控濺射源原理樣機靶麵磁場彊度,研究瞭不同工作真空度下的伏安特性以及磁控濺射電源工作在不同模式下靶電壓與工作真空度之間的關繫,確定瞭磁控濺射源正常工作時的最佳工藝參數,為磁約束磁控濺射源原理樣機的結構改進提供依據.實驗錶明:磁控濺射靶穩定工作的電壓範圍是300～700 V,靶電流可達到1.2 A,最高工作真空度為2 Pa.
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