粉末冶金材料科学与工程
粉末冶金材料科學與工程
분말야금재료과학여공정
POWDER METALLURGY MATERIALS SCIENCE AND ENGINEERING
2011年
4期
537-546
,共10页
马莉%周科朝%李志友%常通
馬莉%週科朝%李誌友%常通
마리%주과조%리지우%상통
电沉积%高温氧化%镍%晶粒尺寸%择优取向
電沉積%高溫氧化%鎳%晶粒呎吋%擇優取嚮
전침적%고온양화%얼%정립척촌%택우취향
通过调控电沉积过程中的阴极电流密度制备晶粒尺寸和择优取向均不相同的2种Ni镀层,并研究它们的高温氧化行为.采用透射电镜(TEM)、扫描电镜(SEM)、能谱仪(EDS)、X射线衍射仪(XRD)和热增重仪对2种镀层氧化前后进行分析表征,比较2种镀层分别经过600℃和960℃空气氧化后所得氧化膜的表面与截面的形貌与结构.结果表明:高电流密度下易获得晶粒细小,平均晶粒尺寸为120 nm,具有较强<100>择优取向的Ni镀层；低电流密度下所得Ni镀层晶粒粗大,平均晶粒尺寸为925 nm,且具有较弱的<111>择优取向.在空气中600℃氧化时,与高电流密度下所得Ni镀层相比,低电流密度下所得Ni镀层具有更好的抗氧化性能.在960℃氧化时,高电流密度下获得的Ni镀层氧化膜结构致密且具有更好的抗氧化性能.在960℃氧化时,低电流密度下获得的Ni镀层氧化过程中氧化膜生长遵循抛物线定律且氧化膜/金属界面较弯曲；而高电流密度下获得的Ni镀层氧化膜生长遵循立方定律,氧化膜/金属界面较平直.
通過調控電沉積過程中的陰極電流密度製備晶粒呎吋和擇優取嚮均不相同的2種Ni鍍層,併研究它們的高溫氧化行為.採用透射電鏡(TEM)、掃描電鏡(SEM)、能譜儀(EDS)、X射線衍射儀(XRD)和熱增重儀對2種鍍層氧化前後進行分析錶徵,比較2種鍍層分彆經過600℃和960℃空氣氧化後所得氧化膜的錶麵與截麵的形貌與結構.結果錶明:高電流密度下易穫得晶粒細小,平均晶粒呎吋為120 nm,具有較彊<100>擇優取嚮的Ni鍍層；低電流密度下所得Ni鍍層晶粒粗大,平均晶粒呎吋為925 nm,且具有較弱的<111>擇優取嚮.在空氣中600℃氧化時,與高電流密度下所得Ni鍍層相比,低電流密度下所得Ni鍍層具有更好的抗氧化性能.在960℃氧化時,高電流密度下穫得的Ni鍍層氧化膜結構緻密且具有更好的抗氧化性能.在960℃氧化時,低電流密度下穫得的Ni鍍層氧化過程中氧化膜生長遵循拋物線定律且氧化膜/金屬界麵較彎麯；而高電流密度下穫得的Ni鍍層氧化膜生長遵循立方定律,氧化膜/金屬界麵較平直.
통과조공전침적과정중적음겁전류밀도제비정립척촌화택우취향균불상동적2충Ni도층,병연구타문적고온양화행위.채용투사전경(TEM)、소묘전경(SEM)、능보의(EDS)、X사선연사의(XRD)화열증중의대2충도층양화전후진행분석표정,비교2충도층분별경과600℃화960℃공기양화후소득양화막적표면여절면적형모여결구.결과표명:고전류밀도하역획득정립세소,평균정립척촌위120 nm,구유교강<100>택우취향적Ni도층；저전류밀도하소득Ni도층정립조대,평균정립척촌위925 nm,차구유교약적<111>택우취향.재공기중600℃양화시,여고전류밀도하소득Ni도층상비,저전류밀도하소득Ni도층구유경호적항양화성능.재960℃양화시,고전류밀도하획득적Ni도층양화막결구치밀차구유경호적항양화성능.재960℃양화시,저전류밀도하획득적Ni도층양화과정중양화막생장준순포물선정률차양화막/금속계면교만곡；이고전류밀도하획득적Ni도층양화막생장준순립방정률,양화막/금속계면교평직.
