光刻线宽精度控制的研究
광각선관정도공제적연구
The Rearch of Photolithography Line Wiclth Precision Control
  • 万方数据
    微处理机 미처리궤
    MICROPROCESSORS
    2005年 2期 12-13 ,共2页

    姜立娟%李响%唐拓

    강립연%리향%당탁

    光刻%线宽 光刻%線寬
    광각%선관
    本文通过对涂胶、曝光等影响线宽参数的工艺进行实验,制定了一套工艺规范,使光刻线宽控制在±10%以内,提高了光刻的工艺水平.
    본문통과대도효、폭광등영향선관삼수적공예진행실험,제정료일투공예규범,사광각선관공제재±10%이내,제고료광각적공예수평.
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