光谱实验室
光譜實驗室
광보실험실
CHINESE JOURNAL OF SPECTROSCOPY LABORATORY
2005年
3期
666-668
,共3页
杨杰文%许良珠%蒋新%徐仁扣
楊傑文%許良珠%蔣新%徐仁釦
양걸문%허량주%장신%서인구
铝离子%吸附%X射线光电子能谱
鋁離子%吸附%X射線光電子能譜
려리자%흡부%X사선광전자능보
用X射线光电子能谱技术研究了不同pH条件下二氧化硅对铝离子的吸附作用.在pH分别为3.74、4.25和4.88条件下,吸附在二氧化硅表面的铝离子的Al2p电子结合能依次为74.30、74.90、75.10eV.根据Al3+在水溶液中的一级水解常数pK1=4.99,认为在pH=3.74条件下,吸附在二氧化硅表面的铝离子的形态为Al3+,而在其余两种pH条件下表面铝离子的形态为Al(OH)2+.
用X射線光電子能譜技術研究瞭不同pH條件下二氧化硅對鋁離子的吸附作用.在pH分彆為3.74、4.25和4.88條件下,吸附在二氧化硅錶麵的鋁離子的Al2p電子結閤能依次為74.30、74.90、75.10eV.根據Al3+在水溶液中的一級水解常數pK1=4.99,認為在pH=3.74條件下,吸附在二氧化硅錶麵的鋁離子的形態為Al3+,而在其餘兩種pH條件下錶麵鋁離子的形態為Al(OH)2+.
용X사선광전자능보기술연구료불동pH조건하이양화규대려리자적흡부작용.재pH분별위3.74、4.25화4.88조건하,흡부재이양화규표면적려리자적Al2p전자결합능의차위74.30、74.90、75.10eV.근거Al3+재수용액중적일급수해상수pK1=4.99,인위재pH=3.74조건하,흡부재이양화규표면적려리자적형태위Al3+,이재기여량충pH조건하표면려리자적형태위Al(OH)2+.
