光学学报
光學學報
광학학보
ACTA OPTICA SINICA
2006年
7期
1115-1118
,共4页
邵碧琳%江风益%戴江南%王立%方文卿%蒲勇
邵碧琳%江風益%戴江南%王立%方文卿%蒲勇
소벽림%강풍익%대강남%왕립%방문경%포용
薄膜光学%氧化锌%Ag%Si衬底%金属有机化学气相沉积法
薄膜光學%氧化鋅%Ag%Si襯底%金屬有機化學氣相沉積法
박막광학%양화자%Ag%Si츤저%금속유궤화학기상침적법
在Si衬底上利用磁控溅射的方法沉积1.5 nm厚度的Ag膜用以阻挡Si衬底被氧化.采用常压金属有机化学气相沉积法(MOVCD),在Ag/Si(111)衬底上成功地生长出马赛克结构的ZnO薄膜.用光学显微镜观察表面形貌,结果显示有带晶向特征的微裂纹,裂纹密度为100 cm-1.依据X射线晶体衍射的结果,薄膜结晶质量良好,呈C轴高度择优取向.用双晶X射线衍射得到(002)面的ω扫描半峰宽为1.37°.温度10 K时光致发光谱(PL)观察到自由激子、束缚激子发射及它们的声子伴线.结果表明,金属有机化学气相沉积法方法在Si(111)衬底上制备ZnO薄膜时,Ag是一种有效的缓冲层.
在Si襯底上利用磁控濺射的方法沉積1.5 nm厚度的Ag膜用以阻擋Si襯底被氧化.採用常壓金屬有機化學氣相沉積法(MOVCD),在Ag/Si(111)襯底上成功地生長齣馬賽剋結構的ZnO薄膜.用光學顯微鏡觀察錶麵形貌,結果顯示有帶晶嚮特徵的微裂紋,裂紋密度為100 cm-1.依據X射線晶體衍射的結果,薄膜結晶質量良好,呈C軸高度擇優取嚮.用雙晶X射線衍射得到(002)麵的ω掃描半峰寬為1.37°.溫度10 K時光緻髮光譜(PL)觀察到自由激子、束縳激子髮射及它們的聲子伴線.結果錶明,金屬有機化學氣相沉積法方法在Si(111)襯底上製備ZnO薄膜時,Ag是一種有效的緩遲層.
재Si츤저상이용자공천사적방법침적1.5 nm후도적Ag막용이조당Si츤저피양화.채용상압금속유궤화학기상침적법(MOVCD),재Ag/Si(111)츤저상성공지생장출마새극결구적ZnO박막.용광학현미경관찰표면형모,결과현시유대정향특정적미렬문,렬문밀도위100 cm-1.의거X사선정체연사적결과,박막결정질량량호,정C축고도택우취향.용쌍정X사선연사득도(002)면적ω소묘반봉관위1.37°.온도10 K시광치발광보(PL)관찰도자유격자、속박격자발사급타문적성자반선.결과표명,금속유궤화학기상침적법방법재Si(111)츤저상제비ZnO박막시,Ag시일충유효적완충층.
