甘肃科技纵横
甘肅科技縱橫
감숙과기종횡
SCIENTIFIC & TECHNICAL INFORMATION OF GANSU
2011年
2期
36,78
,共2页
光热退火%多晶硅薄膜%晶粒尺寸
光熱退火%多晶硅薄膜%晶粒呎吋
광열퇴화%다정규박막%정립척촌
本论述研究了非晶硅薄膜的快速光热退火技术,先利用PECVD法设备沉积非晶硅薄膜,然后放入快速光热退火炉中进行退火.退火前后的薄膜利用x射线衍射仪(XRD)测试其晶体结构;对不同退火温度下的系列样品测定了RXD谱图.研究表明退火温度、退火时间对非晶硅薄膜的晶化都有很大的影响,光波的频率和光照强度是起着主导作用.
本論述研究瞭非晶硅薄膜的快速光熱退火技術,先利用PECVD法設備沉積非晶硅薄膜,然後放入快速光熱退火爐中進行退火.退火前後的薄膜利用x射線衍射儀(XRD)測試其晶體結構;對不同退火溫度下的繫列樣品測定瞭RXD譜圖.研究錶明退火溫度、退火時間對非晶硅薄膜的晶化都有很大的影響,光波的頻率和光照彊度是起著主導作用.
본논술연구료비정규박막적쾌속광열퇴화기술,선이용PECVD법설비침적비정규박막,연후방입쾌속광열퇴화로중진행퇴화.퇴화전후적박막이용x사선연사의(XRD)측시기정체결구;대불동퇴화온도하적계렬양품측정료RXD보도.연구표명퇴화온도、퇴화시간대비정규박막적정화도유흔대적영향,광파적빈솔화광조강도시기착주도작용.
