半导体技术
半導體技術
반도체기술
SEMICONDUCTOR TECHNOLOGY
2007年
1期
12-16
,共5页
光刻%极紫外光源%放电等离子%激光等离子体%ECR等离子体
光刻%極紫外光源%放電等離子%激光等離子體%ECR等離子體
광각%겁자외광원%방전등리자%격광등리자체%ECR등리자체
对国际上普遍采用的两种EUV光源:放电等离子体源(DPP)和激光等离子体源(LPP)进行了多方面比较.给出了两种等离子体源各自优点及难以克服的困难.基于目前的测量结果,指出了ECR等离子体有潜力成为一种新型的极紫外辐射源.
對國際上普遍採用的兩種EUV光源:放電等離子體源(DPP)和激光等離子體源(LPP)進行瞭多方麵比較.給齣瞭兩種等離子體源各自優點及難以剋服的睏難.基于目前的測量結果,指齣瞭ECR等離子體有潛力成為一種新型的極紫外輻射源.
대국제상보편채용적량충EUV광원:방전등리자체원(DPP)화격광등리자체원(LPP)진행료다방면비교.급출료량충등리자체원각자우점급난이극복적곤난.기우목전적측량결과,지출료ECR등리자체유잠력성위일충신형적겁자외복사원.
